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为什么P沟道MOS的VDS电压做不大

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发表于 2017-9-15 17:49 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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请教为什么P沟道MOS管的VDS做不大。N沟道的MOS VDS可以做到几百V甚至1000V,P沟道的MOS的VDS通常在100V以内。是内部什么构造影响VDS的值差距很大。

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好問題!啃了一晚的狗糧才找到答案。@_@!!!  发表于 2017-9-16 00:56

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发表于 2017-9-17 22:49 | 只看该作者
- J" |+ y% j9 A/ s2 S2 X) V
http://www.360doc.com/content/16/0902/13/35356821_587762820.shtml% ]4 w3 w/ j/ S6 y, Y8 v

  ?" X( ]0 A6 X  ?( s4 J* D* t高压PMOS也有见过
/ n7 u& P$ X, T 6 ~  F, {3 o' ^

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補充說明,為何 N-Channel MOSFET 比 P-Channel MOSFET 容易做到,答案就完整了!^_^  发表于 2017-9-18 08:58

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发表于 2017-9-17 09:59 | 只看该作者
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发表于 2017-9-18 10:39 | 只看该作者
在常温下N 沟道中的电子迁移率大约是P 沟道中的空穴迁移率的2~3 倍,在要求同样的导电时间下,只有把PMOS的宽长比设的更大一些,才能达到要求,这也就解释了同样面积的沟道,NMOS的导通内阻更低,工艺上做起来更容易,成本也更低小,PMOS较低的电流驱动能力,工作速度比NMOS要慢。
( [; ]) u( ]8 o0 E5 J7 n厚度会影响降低击穿电压值,同样体积,PMOS比NMOS厚度大耐压值低。

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小弟只能做錦上添花的工作! 由於電子(Electron)的移動率(Mobility)比電洞(Hole)高,因此對於降低電阻,n 型雜質(n-TypeImpurity)的效果會比 p 型雜質(p-Type Impurity)來得好。 然而提高雜質濃度(Im  详情 回复 发表于 2017-9-18 13:01

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发表于 2017-9-18 10:47 | 只看该作者
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发表于 2017-9-18 13:01 | 只看该作者
本帖最后由 超級狗 于 2017-9-18 17:58 编辑 : t& I2 I1 f7 h5 O, p
Aubrey 发表于 2017-9-18 10:39
  g) ]: r2 H1 a4 B7 Q7 Q在常温下N 沟道中的电子迁移率大约是P 沟道中的空穴迁移率的2~3 倍,在要求同样的导电时间下,只有把PMOS的 ...

# \6 F2 N4 l! F% X
小弟只能做錦上添花的工作!

" q, u7 m3 k0 m* s
由於電子Electron)的移動率Mobility)比電洞Hole)高,因此對於降低電阻,n 型雜質n-Type Impurity)的效果會比 p 型雜質p-Type Impurity)來得好。

) O9 C' W/ v5 i
然而提高雜質濃度Impurity Concentration),並非降低半導體電阻的萬靈丹。電子學也提到,當雜質濃度(Impurity Concentration)超過極限後,過多的載子(Carrier)移動時發生嚴重碰撞,反而會使移動率(Mobility)下降,這時半導體的電阻不減反增。
, B5 O7 d1 N) J8 ~- B
若要維持同樣的阻值,所需要的 p 型雜質(p-Type Impurity )濃度會比 n 型雜質(n-Type Impurity)濃度高很多。因此使用 p 型雜質(p-Type Impurity),會比 n 型雜質(n-Type Impurity)更容易達到飽和濃度。
" D6 Q  m& M1 k: {! _
P Channel MOSFET 並不是做不到耐 VDS 高壓的規格,而是做出來的 RDS(on) 會讓你不想去用它。RDS(on) 過高,除了功率損耗Power Loss大之外,也讓半導體更容易發熱,壽命跟著縮短。

, O/ C8 l+ M" ~* A9 Y1 y& A3 _4 i

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哈士奇是一種連主人都咬的爛狗!

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发表于 2017-9-18 13:19 | 只看该作者
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发表于 2018-4-7 09:29 | 只看该作者
为什么PMOS比NMOS的沟道导通电阻大-透彻详解 .pdf (1.19 MB, 下载次数: 0)
9 i  n- O, f1 o$ G* P- V: ]
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