表面粗糙度详解（四）Which roughness model is better?

樱桃海弥

1 p+ b/ W- _% q8 p# V# a
3 v! x7 [2 u: v, F

表面粗糙度详解（四）Which roughness model is better?

0 O/ [7 h  Q; g1 U
/ P1 m3 F: t" x' p. E% F2 O# a

本文大纲

1. 表面粗糙度( surface roughness)介绍.

2. 表面粗糙度Model的建立.

3. 表面粗糙度( surface roughness)的仿真.

4.仿真与测试的比对，Which roughness model is better?

% j; t2 A$ S, r$ Z! H" {- w2 ?
关与Suface roughness

铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小，则表面越光滑，反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程

Which roughness model is better?

1.Which roughness model is better?

A1：Hammerstad与Huray model的效果差不多，而roughnessmodel的参数都是透过量测S parameter correlation后fitting出来的。

5 m- S6 T' G+ t& ]

A2：(Classic)Hammerstad只适用于粗糙度HRMS<2um，而Huraymodel无此限制，简言之，Groisse或Hammerstad model仅限于光滑表面使用，而一般制程与SI(宽带)应用，则用Huray model。另外Hammerstadmodel在较高频时(30G~)，K曲线斜率会变缓(渐渐饱和)。

下面这张图则是说明只要适当的参数配置，两种model(对于较光滑的表面)可以达到非常接近的效果

上图从0~60GHz，两种model的效果都很接近的主因是：请注意左边坐标轴K系数<1.5，这表示此例属于low profile roughness

2 S& g6 Z4 k' J! m, I

2. Howto simulate the resonance absorption peak at 35GHz？

A：Itis caused from glassweaver effect.

9 T( V5 Z1 T9 |6 P4 r# |

0 e; u% D" W) c. [9 h

3.Measurement v.s. Simulation

Huray Model需要定义颗粒大小a (nodule radius)，与单位面积颗粒数目N/Af (InSIwave, Huray Surface Ratio=4*pi*a2*N/Af)

- v; x% F8 c, v' t% q; ~, y) ~

4.Why does characteristic impedance Zo increase to infinity while frequency decreases to zero

- G$ F+ n% W8 W5 d
4 T; m* r: A2 w% A4 `1 n

A：特征阻抗 (G是介质损耗所造成，通常很小)

2 G' y8 h4 G/ A1 f8 S1 U

高频时   (这式子也适用于无损的传输线特征阻抗表示)

低频时 当频率趋近于0  (w®0)，Zo趋近无限大

# c, [4 p% m& V. F& m# j
& T* R8 g2 y4 `/ B

-----全文完-----