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本帖最后由 mosman 于 2016-3-9 00:57 编辑 * E7 l# B- I, T) B9 j& Y3 P- T
% D# E" J3 G7 F5 Y6 DAC耦合电容组装结构的优化& U; \5 f7 [& A
在高速串行链路中,为了让工作在不同电压下的发送器和接收器能够连接(也许是为了不影响各自buffer模拟电路部分的静态工作点),需要在通路中加入隔直电容,但是隔直电容自身和焊接电容的焊盘会给通路带来阻抗的不连续性。这在设计中都需要仔细考虑,也需要考虑电容是放在发送端还是接收端的问题
8 d5 @, Y; F$ [! {. [$ j
4 z* `" u% p2 F* ]5 ~* p4 o8 U7 n一个典型的通路作为实例来研究这个问题
; s( [/ a6 A' J9 i* l# d
0 a, u. |7 x0 D& ?' Z7 y+ G
/ A4 i& X3 z& D7 E: p
其中电容的模型是C=100nF,ESR=1mOhm,ESL=100mn* y& ` K' s$ c% y1 r" Q
# U+ K6 d3 t0 b6 P( ~! E$ r
7 N' I: ^- k" C2 n. b# b2 l
! }) }* u. m9 p/ Y* Z9 `当信号传到AC电容处,由于焊盘的面积和电容两端的引脚比较大,这个地方的寄生电容必然很大,最终在TDR图上对应地显示出阻抗偏小。为了让阻抗连续,减少寄生电容,可以在电容的下方将参考平面掏空,如下图, r: m. N2 g- h
, `2 z4 [3 v0 N/ J" L( K' U
( ^2 e8 c/ z. Z+ U( N
- V' l* ] q$ W! }8 x, \- ^将修改前后的电容结构分别做3D电磁场仿真:
0 ?: @/ v7 [, \% ~一、回损/ |* v5 |7 N9 b
1)没有掏空
8 ]) Y ?+ I8 X' U2 L9 a
+ g; R" U5 q; J" @& W9 y2 |/ s3 F
. r9 D# t# j! D7 ~5 B6 @2 M
6 x* ]: d0 ], t6 c2)掏空+ O K8 `; C8 d* Q# i' q& k
" |, b$ ^& i9 l
- u5 P% [7 J) i. |4 { |0 a
% `0 R4 ~ m1 x; K2 `掏空之后,无论是S11还是S22,都要比原来的改善很多,回波损耗在-30dB以下,这在实际的通路中的响降到最低。从S22>S11可以看出靠近电容的端口回损要大,如果要降低反射,可以将电容放在离发送端远一点的距离上。
5 x6 ~, B4 ~2 T+ T2 Q9 N% w1 | Z b. Y3 j4 l' x1 h2 N
二、插损8 \7 D' s! N! @9 |: i9 N# @- p. j/ ~
1)没有掏空/ R5 W6 w g& x
! k8 x$ @# N$ \5 [
8 d6 |% N- a8 V
2)掏空1 f6 \, Y* K) Y! m* w, Q
p5 B5 D* x) m& f: ]5 ^) Z
; N( l, h& u8 W* B* G5 [ @电容造成阻抗的不连续带给插损的影响很小。1 N2 L2 X8 j' q3 c* I5 w
7 r6 Q' g, p9 l* {; R. u2 I {三、TDR, W1 Q" ] K9 S! A
用前面3D电磁场仿真得到的S参数对这两种电路做TDR分析:/ ?; c$ Y0 A, J
1)没有掏空' Q! {9 o" w S# N7 @" ?' U
4 u# o% I1 R, I+ ?1 M1 b9 X+ X
1 V* g1 v" P) n2)掏空
6 i/ @- H* T/ }$ o. L
& n! ~9 f6 ~. }2 L9 P
6 A* H" l" u& q; s2 d8 _% B. T
可以看到未掏空之前阻抗的不连续点很明显,掏空之后的阻抗十分连续,几乎看不到任何的不连续了* [$ f0 B5 b, {$ i, o
类似的掏空处理方法还有很多地方可以用到,如大的QFN焊盘下方, DDR4内存条金手指 的信号参考平面。# A/ m% W$ u3 K I4 W( [6 j
掏空区域的大小要根据软件仿真得到,不能一概而论。! j8 v- A& E( d
! a/ R- K$ H0 b' C
; v1 s) d L5 R* q+ G) a* E3 [3 V" P" H( J& A$ F
! i" O& `& L" j1 p8 z1 y
' i, E2 f" [, V/ f, l q. { |
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