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本帖最后由 jimmy 于 2015-9-24 11:23 编辑 - w1 B& E& b: R9 |* f4 o8 ^
F+ V! o8 f& g+ m- I1 cDDR3 LAYOUT重点事项. W7 C; K6 }( ]1 I+ N$ q" U( [& |* P
5 L7 K5 M5 S( B: v1.走线宽度和间距
6 U) X N4 G; Y' X+ X5 D9 P/ Y" q1)走线宽度:所有的走线线宽为 4mils,除了RK29XX第三第四排的球位走
5 ?2 P* \9 b% l1 a( ]& E/ [一小段3.5mils的线宽外。 1 _( V' w8 x0 B' N6 a
2)同一信号组内两相邻导线之间的间距为12.8mils,即焊盘中心距离的/ e( q- r2 D4 O8 G+ e* ?$ ]7 A% A
一半,导线走 $ ~/ L; ]+ ]. a# z* R; g
线从IC 出来之后有条件情况下可适当展开,尽量遵守3W (两线中间距
( v4 K6 Y: v3 q3 \是线宽的3倍)原则。 * `. d2 e0 Z% t- i6 S0 W
. Z! i& \, a# B- z9 a
3)不同信号组之间两相邻导线之间的间距至少3 倍线宽,原则上要求4倍: L3 o' i6 x1 \6 D/ b' T
线宽,越大越好。 7 d+ ^1 Y0 O. f) |
4)差分线走线 4mils,线间距4mils。
3 D2 a' ]$ G9 ~# H0 q6 S1 a2.信号分组以及走线线长要求
+ j* `; O s4 B$ I+ A. v1) / o& E. a- h6 @9 g- U% C+ }
32条数据线(DATA0--DATA31)、4条 DATA MASKS(DQM0-DQM3),
* [! i/ e1 a. j: u1 ]( F. a4对 DATA STROBES差分线(DQS0P/ DQS0M—DQS3P/
% j; l5 F1 k4 E$ p8 rDQS3M),这 36条线和 4对差分线分为四组: + `4 }( D4 U4 E6 W3 S* `# U; Q
GROUP A:(DATA0—DATA7,DQM0,DQS0P/ DQS0M) & d0 k1 z# R7 h7 F
GROUP B:(DATA8—DATA15,DQM1,DQS1P/ DQS1M)
! k ?1 z* _$ a H0 vGROUP C:(DATA16—DATA23,DQM2,DQS2P/ DQS2M)
0 D! L3 k% C8 n9 e6 `3 ?( QGROUP D:(DATA24—DATA31,DQM3,DQS3P/ DQS3M)8 a8 @$ ~, y- \! @4 R/ \& m
DQSnP/DQSnM都可以启用ODT,而且都是点对点连接,其信号完整
7 H& A1 W! h& ]9 P性比较有保障,可以稍微放宽布线要求,DQSnP/DQSnM之间的线长误差
' a2 Z* y9 N' J3 f
. {" I0 V' n5 @+ W0 e/ Z控制在 50mils以内;每个 GROUP内的数据线和 DQMn组内线长误差控- O! Y/ J; l* }
制在 50mils以内。8 @$ q; }" W/ F, \& {, t `
2) " X S3 E" ^' e
再将剩下的信号线分为三类: ' ~+ [6 t( P& J8 b7 C& R9 x
GROUP E:Address ADDR0—ADDR15 这 16条地址线。
2 o+ W7 @# K" Y1 T8 v3 L g) BGROUP F:Clock CLK-,CLK+这两条差分的 CLK线。 , ^/ P; E4 k7 _' {2 x$ d
GROUP G:Controls 包括 WE、CAS、RAS、CS0、CS1、CKE0、 & h% ^# f% v: [/ H# d# J
CKE1、ODT0、ODT1、BA0、BA1、BA2等控制信号。
+ i) l! y0 ^. y: e. f. fAddress/Command、 Control与 CLK归为一组,因为
' o- m/ b& U; e" A. ~% y( _Address/Command、Control是以 CLK的下降沿由 DDR控制器! Y) H' Z+ N K
输出,DDR颗粒由 CLK的上升沿锁存 Address/Command、
7 \/ Y3 T" o/ y6 RControl总线上的状态,所以需要严格控制 CLK与 ( S. }. y$ M' }
Address/Command、Control之间的时序关系,确保 DDR颗粒能
2 U$ u3 Y p" B& G; x$ d够获得足够的、最佳的建立/保持时间。
" Q1 d- a9 }0 x如果使用 2片 16bits的 DDR2/39 Q# |# U( C% V/ A0 C& w1 P
2片 16Bits的 DDR2/3的Address/Command、Control、CLK采用
6 B& R0 J! O# \5 R+ V+ S单纯的“T”型拓扑结构,其目的是为了省去 VTT而兼顾信号完整- l$ F- ?6 d' ^1 E/ Y5 A
性,PCB布线时应注意以下几点:. G+ y, @* |4 W/ j6 s
A) - S) p$ D8 i) a8 k" c
Address/Command、Control、CLK做“T”型拓扑应注意,2 O# N" Z/ o9 Y5 @9 ]5 k' d2 u O
保证主控芯片至各个 DDR颗粒的点对点长度误差小于 100mils;2 G1 i& ~9 L% z
分支节点至各个 DDR颗粒的布线长度应尽可能短,同时应最大限
/ _4 `2 g* w! E. l1 |# c$ F% {度保证分支节点到两个 DDR颗粒的布线长度相等,必要时可采用
1 L0 ~# k7 c0 s2 `# {. `蛇形线。对称的“T”型拓扑可以最大限度改善信号质量。为满 }& J, k4 n2 t. m3 S* b9 g
足主控芯片至各个 DDR颗粒等长要求做的蛇形线应优先考虑在主
( F* H [" Z* @( t5 Y0 J控至分支节点之间做补偿处理。如下图。 4 g: d) k5 h1 ]- d% L- D8 h6 z
B)
! u- C: [# P1 y+ g据实测分析,CLK需要做 200ps左右的附加延时才能与
2 S1 S& |7 L; I- d" c, n) B: UAddress/Command、Control时序对齐。所以,要求 PCBLayout时 0 C- v( A$ V. Y h7 X
CLK差分对应比Address/Command、 Control长
) G4 i7 ^$ S9 _1000mils~1200mils。 $ s4 ?2 }) O0 a; }* E: `6 L
P" O6 n% `# iC) & Z/ W6 r3 t: P' I
在 CLK与 CLKN差分线分支点处必需预留端接电阻位,为可
% o8 z7 \- ^8 F y0 y/ h* {能出现的兼容性问题提供调试空间。7 L4 G7 w2 y0 q
如果使用 4片 8bits(单面贴片)的 DDR2/3要求如下:
8 X7 {) U+ i7 {A)若 PCB布线空间允许,Address/Command、Control、CLK7 k: h, d/ |9 k5 u3 b! K/ U3 _8 k3 T
应优先采用单纯的“T”型拓扑结构,并尽可能缩短分支线长度; , s! I2 I) m, s: s
PCB布线空间有限的,可以采用“T”型拓扑和菊莲拓扑混合的结! M$ k/ U- N# B% {9 L: J
构:
2 I) p8 f: c: _% s) O9 ?主控
5 y7 U" j# \% c' u3 X0 `! m0 o( z2 N! S8 Q. ?( g
|
0 @, K: v2 Z' [% j+ c* QDDR2/3(1)------DDR2/3(2)------(A)------DDR2/3(3)------DDR2/3(4)/ t5 z0 }& e$ x; E
菊莲拓扑部分的 Layout尽可能满足DDR2/3(1)至DDR2/3(2)之间的长度
+ H* i- p- `3 a5 z! d5 g. G和DDR2/3(2)至分支节点 A之间的长度相等,DDR2/3(3)、DDR2/3(4)的要求与4 K/ f* p& p; ]
此相同,这可以改善DDR2/3(2)、DDR2/3(3)的信号质量。 $ E& W# s% M" x/ i
菊莲分支尽可能的短,这可以最大限度改善DDR2/3(2)、DDR2/3(3)的信号
/ K. H; K6 x+ H! \$ W$ U质量。6 G, G! J, Y& f5 M5 s% s9 h( O
见下图。 3 E+ N6 w5 b9 s, n/ d2 }8 c
) q: n4 x0 N, ]$ z* R# H3 q
3 |# F1 ^5 H2 Y/ XB)混合拓扑结构中“T”型拓扑的要求与两片 DDR2/3相同。
" q9 y9 y* Y, `5 B4 H# s9 S3.其它走线注意点
% ] ]8 g8 v" z1 {1)DQS 走线位置应在组内的DQ 中间。
/ T" S# l* s. Q! d2)DQS 与时钟不要相邻。 4 K; {4 m% n7 X, w. t- [7 a
3)蛇形线的线与线中心间距保证至少3倍线宽,蛇形线振幅应控制在
% i' b6 M3 Z6 B! E& z; U180mils以内,否则会破坏信号质量,使传输延时低于预期。 ) H @7 J% t1 w( q
4)DDR2/3的信号线必须有完整的参考面,以保证信号电路的回流路径阻
& w$ h6 g3 H% W! [6 d抗最小。 4 Q8 x3 q9 r P& m
5)禁止DDR2/3所有信号线跨越不同的电源平面。 : v4 j1 W* }& I# e+ T
6)RK29XX和DDR颗粒的每个VCCDR管脚尽量在芯片背面放置一个退藕电容,, d, J$ R- ~1 K, S+ h
而且过孔应该紧挨着管脚放置,以避免增加导线的电感。 * j$ ]/ K3 T- @
4.VREF 的处理 7 {( W/ H0 b- |+ p: J
主控与DDR3颗粒的VREF 分开,各从VDDQ 分压取得,VREF 尽量靠近芯
o' V2 ^& g' O6 h5 H4 Z片,VREF 走线尽量短,且与任何数据线分开,保证其不受干扰(特别注意
7 N* t. W& g$ E4 g相邻上下层的串扰),且相对VDDQ有良好的跟随性,保证VREF的值在噪
+ H" e- W% F1 O% U6 u/ b, G声,温度变化时,会随着VDDQ变化;VREF只需要提供非常小的电流(输入
_9 f- d5 s" n% F% S泄露电流大概3mA),每一个VREF脚都要靠近管脚加102旁路电容,线宽度建
5 J% \4 u# j& r0 G# ^, J议不小于10mils。 7 a1 Z+ s3 a' ~" N; J
5. PCB 叠层和阻抗要求
2 R& w7 c& O- s1)PCB叠层
$ @- h5 S; ^. W1 ?9 @. Q" n/ q# YRK29XX:采用6层结构。推荐6层板的板层设置为TOP-GND-POWER-S1
3 O8 G8 \0 Q7 W2 a9 d: c, s7 i+ x
GND-BOTTOM。 9 ?0 h! b) f* x4 a- L; N, K9 S
板层分布如下:
& q9 K; `) h% W名称 属性 类型/规格厚度(mil)
+ }5 L! T1 x6 }% S介电常
' V/ ?" z' N- n4 t0 V数
7 F q$ A3 D$ u$ e2 Q$ a备注 / G- `) z" q8 F7 E6 z! R' g
Top Signal1 Cu 0.7 --* A$ Q' V+ R. p2 j* Z
FR 4 5 4.3 -
# z9 Q. z" n. o! W2 D/ RL2 Gnd1 Cu 1.35 --3 g0 V0 H, O: N4 s
FR 4 7 4.3 -
8 k& M: ~" j& T# _9 j; ? TL3 Power Cu 1.35 --! W! C3 M `7 Q+ l
FR 4 -4.3 根据板厚调整
1 p l: T G1 ML4 Signal2 Cu 1.35 --& W( ~& q7 d! W, ?% Q
FR 4 7 4.3 -
) K4 \2 ~5 x: J9 C0 O' iL5 Gnd2 Cu 1.35 --1 p* e5 ]( h$ X: G$ n$ r
FR 4 5 4.3 -9 ?* g/ y! e' V) C4 L7 g, F1 s- G
Bottom Signal3 Cu 0.7 -- J! Y- s W$ \* D, u
2)阻抗要求 ! \" F p; V8 g: p" ~, y4 C' y0 _
A)单线特征线宽4mils,阻抗控制50~75ohm,但内外层布线的阻抗突* S* k* A D2 E1 W
变应小于10ohm。 $ q4 C+ c) P b5 O% x- H
B)差分对阻抗控制 100~130ohm,但内外层布线的阻抗突变应小于& A5 ~5 C: L( v- Q+ j7 t
20ohm。
0 d( p- v) f. fC)电路板的填充材料的介电常数一般变化范围是4.0~4.5,它的数值随
1 {2 R9 w" r# G( X# d9 M着频率,温度等因素变化。FR-4 就是一种典型的介电材料,在# b5 b" h& c. U2 m) n0 C% q4 B
100MHz 时的平均介电常数为 4.2;推荐使用FR-4 作为PCB 的填充
, d; @3 w+ ?/ f0 F+ x. _ D6 M材料。 . C9 A- W+ c2 ]6 j
D)6层板:DDR信号线走尽量走在TOP,S1层,BOTTOM;TOP层参考L2(GND),S1层参考L3层(POWER)和L5层(GND),BOTTOM层参考L5
$ a5 v0 n: e, L6 A) P层(GND);L3层POWER建议使用铺铜方式,区域包含全部DDR3数据1 s% g6 i! ^6 _4 U! a, I
线,如下图,点亮的shape是VCCDR电源。 & _( P' {+ h% a' W0 u; N( S( G1 h
# `8 C1 D6 ]* S7 b1 |6 B2 ?
E)其它信号线不要穿过 DDR区域。
: B1 S- Y3 N) s2 X" \9 o- _3 lF)在走完信号线后,DDR区域剩余的空间必须用 GND或 POWER填满,
9 r) L ^* ~& p. ]$ R建议 DDR的电源和整板的 GND层设置成 Split/Mixed,而且铺铜的
9 n E1 r8 ^" |& _8 w, R- o线宽尽量小,可以使用铺铜效果更好;在 BGA封装下方如果无法灌7 m0 t8 }8 `# r
铜的地方请手工补线。
6 e) A' Q1 Z/ x8 [" ^6 ] Y( Q! |DDR颗粒下面的过孔间在L2层(GND层)和L5层(GND层)需要手动补3 ?% s, s, D: |) L
地线,L3层(POWER层)需要手动补VCCDR电源线,如下图。
$ E. P7 t" m8 [' `5 M6 z1 ]. O# e& Z- E8 t
6 u7 ~; ]1 W3 X5 L
在RK2918芯片的L2层(GND层)和L5层(GND层)需要手动补地线,如下$ N7 m5 r% x( \( V. M3 o4 }. p
图。
3 v8 h) Q, P3 K Q$ [; ?3 {9 B% ]! V6 U: {; i5 }5 r! F
在RK2918芯片下面的L3层(POWER层)需要手动补VCCDR电源线,如下图。 / C6 r3 D0 T1 L- B& w& Z( n; ] ]
1 Y# c! l$ d" e! W x. ~: } |
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