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为什么P沟道MOS的VDS电压做不大

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发表于 2017-9-15 17:49 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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请教为什么P沟道MOS管的VDS做不大。N沟道的MOS VDS可以做到几百V甚至1000V,P沟道的MOS的VDS通常在100V以内。是内部什么构造影响VDS的值差距很大。

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好問題!啃了一晚的狗糧才找到答案。@_@!!!  发表于 2017-9-16 00:56

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发表于 2017-9-17 22:49 | 只看该作者

; b% {; M5 i/ |5 L7 B* q1 G3 p& Zhttp://www.360doc.com/content/16/0902/13/35356821_587762820.shtml
+ ]3 @5 f* C  @
- I! w  Y& u+ A$ V$ f( c/ n高压PMOS也有见过6 N- N& A4 x! N' {# k. G

: R9 }  c. t2 y% X' V5 ?

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補充說明,為何 N-Channel MOSFET 比 P-Channel MOSFET 容易做到,答案就完整了!^_^  发表于 2017-9-18 08:58

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发表于 2017-9-17 09:59 | 只看该作者
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发表于 2017-9-18 10:39 | 只看该作者
在常温下N 沟道中的电子迁移率大约是P 沟道中的空穴迁移率的2~3 倍,在要求同样的导电时间下,只有把PMOS的宽长比设的更大一些,才能达到要求,这也就解释了同样面积的沟道,NMOS的导通内阻更低,工艺上做起来更容易,成本也更低小,PMOS较低的电流驱动能力,工作速度比NMOS要慢。9 W& u# X; o/ W7 d1 w
厚度会影响降低击穿电压值,同样体积,PMOS比NMOS厚度大耐压值低。

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小弟只能做錦上添花的工作! 由於電子(Electron)的移動率(Mobility)比電洞(Hole)高,因此對於降低電阻,n 型雜質(n-TypeImpurity)的效果會比 p 型雜質(p-Type Impurity)來得好。 然而提高雜質濃度(Im  详情 回复 发表于 2017-9-18 13:01

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发表于 2017-9-18 10:47 | 只看该作者
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发表于 2017-9-18 13:01 | 只看该作者
本帖最后由 超級狗 于 2017-9-18 17:58 编辑 ) n6 G1 t' t5 h) h$ Q, O
Aubrey 发表于 2017-9-18 10:39% e" o  G8 M, v6 Z# F
在常温下N 沟道中的电子迁移率大约是P 沟道中的空穴迁移率的2~3 倍,在要求同样的导电时间下,只有把PMOS的 ...

4 z4 s4 L9 {0 |
小弟只能做錦上添花的工作!
2 {8 Z7 N3 t# y% e2 ]) ~8 v
由於電子Electron)的移動率Mobility)比電洞Hole)高,因此對於降低電阻,n 型雜質n-Type Impurity)的效果會比 p 型雜質p-Type Impurity)來得好。
4 Y; _1 _- x+ ?% V: @" _. Q5 O$ |
然而提高雜質濃度Impurity Concentration),並非降低半導體電阻的萬靈丹。電子學也提到,當雜質濃度(Impurity Concentration)超過極限後,過多的載子(Carrier)移動時發生嚴重碰撞,反而會使移動率(Mobility)下降,這時半導體的電阻不減反增。
* I3 q7 T/ X' }( c1 `8 q
若要維持同樣的阻值,所需要的 p 型雜質(p-Type Impurity )濃度會比 n 型雜質(n-Type Impurity)濃度高很多。因此使用 p 型雜質(p-Type Impurity),會比 n 型雜質(n-Type Impurity)更容易達到飽和濃度。

7 m7 p7 ]% h6 X% J, T4 lP Channel MOSFET 並不是做不到耐 VDS 高壓的規格,而是做出來的 RDS(on) 會讓你不想去用它。RDS(on) 過高,除了功率損耗Power Loss大之外,也讓半導體更容易發熱,壽命跟著縮短。
9 A: ?6 x- u/ p: F  K/ K/ T1 @

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哈士奇是一種連主人都咬的爛狗!

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发表于 2017-9-18 13:19 | 只看该作者
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发表于 2018-4-7 09:29 | 只看该作者
为什么PMOS比NMOS的沟道导通电阻大-透彻详解 .pdf (1.19 MB, 下载次数: 0)
5 i6 @5 _, O- @0 K
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