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DXP做多层板时候有两种做内电层的方法
* y. z' E5 x/ D" e) a9 T3 h1:在layer stack manger里面选择 add layer
$ n* E7 C0 @' i \' y9 l 相当于增加一个布线层,然后在这个层里面大面积敷铜连接到网络
2 N" g9 y$ \2 g: ]( W9 F ]2:在layer stack manger里面选择 add plane4 v: r# h* i1 a5 \* H6 n2 i+ O+ a
再进行内电层分割$ ~# F2 @$ r- x% ~
' @" b8 @$ f& ^1 r' q请问一般大家用那种呀?: } G/ x$ o' z* U2 h' L+ J# ^
8 ?8 f! g8 U1 m9 `' B我看到有人用第一种的时候把铜膜设置为网状的hatched类型5 C9 T5 ~ z6 _' Z7 T$ ^
想问下用add plane时候可以设置这样的铜膜类型不呢?$ Q5 h J9 X: p& t: H7 P
用那种类型的铜膜好点呢?
5 Q' [( n1 a9 i0 w( L
9 \, Q" X+ S, z, l7 r' ~' G8 b还有用 add plane的时候该如何设置内电层的边界大小尺寸呀?
: b) ^1 D+ |: I) x! S& [没有看到相关的命令呀
9 z/ v. A, E5 n u0 \% T" L3 Q/ ^
+ Y. z; r. s% R$ I2 G谢谢
1 T, ?0 V/ r/ P! V0 `非常感谢 |
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