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本帖最后由 alexwang 于 2018-7-3 09:29 编辑 3 k8 F y- z+ o* w9 Z6 x/ `6 A& ^
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表面粗糙度详解（四）Which roughness model is better?
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# @/ g7 Z" S1 _# O% I
4 B/ M" p7 ~3 l# G% ^$ _% s1 j+ }* a2 u1. 表面粗糙度( surface roughness)介绍. 3. 表面粗糙度( surface roughness)的仿真. 4.仿真与测试的比对，Which roughness model is better?
/ Q, a7 Z+ Y4 G u: e2 d' H
) n9 Y. b9 b' v; o6 o. i" Q
关与Suface roughness铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小，则表面越光滑，反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程 8 h' a4 p* s' ]( N
Which roughness model is better?1.Which roughness model is better?
2 ?" v ?+ K4 d! IA1：Hammerstad与Huray model的效果差不多，而roughnessmodel的参数都是透过量测S parameter correlation后fitting出来的。
6 B" \+ N! F3 X/ A7 t( @A2：(Classic)Hammerstad只适用于粗糙度HRMS<2um，而Huraymodel无此限制，简言之，Groisse或Hammerstad model仅限于光滑表面使用，而一般制程与SI(宽带)应用，则用Huray model。另外Hammerstadmodel在较高频时(30G~)，K曲线斜率会变缓(渐渐饱和)。 6 Z2 P8 G8 c+ \( H
下面这张图则是说明只要适当的参数配置，两种model(对于较光滑的表面)可以达到非常接近的效果
0 C0 n! X5 o. U$ `8 I0 d& ~
$ ]9 X7 F2 w$ O! @$ X. ~ 上图从0~60GHz，两种model的效果都很接近的主因是：请注意左边坐标轴K系数<1.5，这表示此例属于low profile roughness 2 G9 j$ Y' N" C7 W s9 G
2. Howto simulate the resonance absorption peak at 35GHz？ ! T$ L* d/ D4 A" w- g
A：Itis caused from glassweaver effect.
( t. t/ \( E1 r8 |" @- c: O: S; y; p5 |0 P) K* Z3 B
3.Measurement v.s. Simulation
1 [7 g; s' M4 @Huray Model需要定义颗粒大小a (nodule radius)，与单位面积颗粒数目N/Af (InSIwave, Huray Surface Ratio=4*pi*a2*N/Af) % f, n7 b$ c- g
4.Why does characteristic impedance Zo increase to infinity while frequency decreases to zero 9 a* K* s8 s) @) a
9 R6 Y& C1 m2 Z E& }+ Q5 s2 `A：特征阻抗
(G是介质损耗所造成，通常很小)
; I# a* X9 C" }) O高频时
(这式子也适用于无损的传输线特征阻抗表示)
% k& g7 ]. F5 e. S0 O' q低频时
当频率趋近于0 (w®0)，Zo趋近无限大 - b7 j- v! [6 k5 ~7 d$ k3 J: M7 X
+ e8 z, d$ u6 J$ c
-----全文完----- 2 o2 H; v3 d3 ~5 o5 `! E! e: L7 k
4 N& Q2 a: p7 D- k% E | 
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发表于 2016-5-13 15:56
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