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本帖最后由 alexwang 于 2018-7-3 09:29 编辑
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表面粗糙度详解(四)Which roughness model is better? - Y# s7 _8 F% L1 v. }5 u
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1. 表面粗糙度( surface roughness)介绍. 3. 表面粗糙度( surface roughness)的仿真. 4.仿真与测试的比对,Which roughness model is better?
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关与Suface roughness铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小,则表面越光滑,反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程
' {' Z: J- T4 J: H* [ |' i1 O1 MWhich roughness model is better?1.Which roughness model is better? ( s) q$ i+ s: K3 f" h' X1 p
A1:Hammerstad与Huray model的效果差不多,而roughnessmodel的参数都是透过量测S parameter correlation后fitting出来的。
& M: f( |1 H# J WA2:(Classic)Hammerstad只适用于粗糙度HRMS<2um,而Huraymodel无此限制,简言之,Groisse或Hammerstad model仅限于光滑表面使用,而一般制程与SI(宽带)应用,则用Huray model。另外Hammerstadmodel在较高频时(30G~),K曲线斜率会变缓(渐渐饱和)。
) P9 G# ?0 M& W! m" }4 B" E0 \下面这张图则是说明只要适当的参数配置,两种model(对于较光滑的表面)可以达到非常接近的效果
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上图从0~60GHz,两种model的效果都很接近的主因是:请注意左边坐标轴K系数<1.5,这表示此例属于low profile roughness F: T1 h7 D h/ C; d3 t$ O$ y6 s
2. Howto simulate the resonance absorption peak at 35GHz? ( G- l7 W- g$ T9 Q9 f$ o% e
A:Itis caused from glassweaver effect.
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& g& k4 i9 B/ E. R0 e6 g3.Measurement v.s. Simulation 3 C, J' |( I$ x; Y4 h' e# j& R! M
Huray Model需要定义颗粒大小a (nodule radius),与单位面积颗粒数目N/Af (InSIwave, Huray Surface Ratio=4*pi*a2*N/Af) 7 ?; Q" C9 k1 f! o
4.Why does characteristic impedance Zo increase to infinity while frequency decreases to zero
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A:特征阻抗
(G是介质损耗所造成,通常很小) 9 t9 I$ N- ]4 g* B$ _3 Z: l$ p z
高频时
(这式子也适用于无损的传输线特征阻抗表示) 3 Q% l0 N( U2 k1 @+ s. d
低频时
当频率趋近于0 (w®0),Zo趋近无限大 ( h, ~- r5 j( h% ^* \- t
( b5 D) \& n2 ]6 k6 U* m# Q# n
-----全文完-----
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