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为什么P沟道MOS的VDS电压做不大

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发表于 2017-9-15 17:49 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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请教为什么P沟道MOS管的VDS做不大。N沟道的MOS VDS可以做到几百V甚至1000V,P沟道的MOS的VDS通常在100V以内。是内部什么构造影响VDS的值差距很大。

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好問題!啃了一晚的狗糧才找到答案。@_@!!!  发表于 2017-9-16 00:56

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发表于 2017-9-17 22:49 | 只看该作者
$ Z+ w1 k% ?  X8 J5 ^; P' j4 f; J
http://www.360doc.com/content/16/0902/13/35356821_587762820.shtml* R7 e- c% l2 O$ C9 {
5 t  J9 {/ }. q6 ~
高压PMOS也有见过
9 E% h8 m% j; X) i$ t 4 ~0 T& T$ {% D2 n* o# G8 x

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補充說明,為何 N-Channel MOSFET 比 P-Channel MOSFET 容易做到,答案就完整了!^_^  发表于 2017-9-18 08:58

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发表于 2017-9-17 09:59 | 只看该作者
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发表于 2017-9-18 10:39 | 只看该作者
在常温下N 沟道中的电子迁移率大约是P 沟道中的空穴迁移率的2~3 倍,在要求同样的导电时间下,只有把PMOS的宽长比设的更大一些,才能达到要求,这也就解释了同样面积的沟道,NMOS的导通内阻更低,工艺上做起来更容易,成本也更低小,PMOS较低的电流驱动能力,工作速度比NMOS要慢。( |$ K# a, ?: ]/ v* w# g
厚度会影响降低击穿电压值,同样体积,PMOS比NMOS厚度大耐压值低。

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小弟只能做錦上添花的工作! 由於電子(Electron)的移動率(Mobility)比電洞(Hole)高,因此對於降低電阻,n 型雜質(n-TypeImpurity)的效果會比 p 型雜質(p-Type Impurity)來得好。 然而提高雜質濃度(Im  详情 回复 发表于 2017-9-18 13:01

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发表于 2017-9-18 10:47 | 只看该作者
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发表于 2017-9-18 13:01 | 只看该作者
本帖最后由 超級狗 于 2017-9-18 17:58 编辑 * t& a1 ?7 e, I" R! a! M2 v' s
Aubrey 发表于 2017-9-18 10:39$ P8 J; h4 @9 c  j2 _& D6 g1 e
在常温下N 沟道中的电子迁移率大约是P 沟道中的空穴迁移率的2~3 倍,在要求同样的导电时间下,只有把PMOS的 ...
" \5 p) j$ e0 W: b
小弟只能做錦上添花的工作!
& V8 e5 N7 l5 I  g
由於電子Electron)的移動率Mobility)比電洞Hole)高,因此對於降低電阻,n 型雜質n-Type Impurity)的效果會比 p 型雜質p-Type Impurity)來得好。

% Q( v3 Q' F# B% V# K. t& n
然而提高雜質濃度Impurity Concentration),並非降低半導體電阻的萬靈丹。電子學也提到,當雜質濃度(Impurity Concentration)超過極限後,過多的載子(Carrier)移動時發生嚴重碰撞,反而會使移動率(Mobility)下降,這時半導體的電阻不減反增。

& D/ ]3 t6 h* {  s若要維持同樣的阻值,所需要的 p 型雜質(p-Type Impurity )濃度會比 n 型雜質(n-Type Impurity)濃度高很多。因此使用 p 型雜質(p-Type Impurity),會比 n 型雜質(n-Type Impurity)更容易達到飽和濃度。
8 j+ Q' \9 x% ^
P Channel MOSFET 並不是做不到耐 VDS 高壓的規格,而是做出來的 RDS(on) 會讓你不想去用它。RDS(on) 過高,除了功率損耗Power Loss大之外,也讓半導體更容易發熱,壽命跟著縮短。
" U' B; `, w8 o9 A& O9 a+ G3 U

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哈士奇是一種連主人都咬的爛狗!

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发表于 2017-9-18 13:19 | 只看该作者
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发表于 2018-4-7 09:29 | 只看该作者
为什么PMOS比NMOS的沟道导通电阻大-透彻详解 .pdf (1.19 MB, 下载次数: 0) 1 r) h6 ]$ t7 T: L  h) H
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