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[电源] IGBT知多少,从原理开始认识它

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发表于 2019-9-27 15:07 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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IGBTIGBT是MOSFET与双极晶体管的复合器件。它既有MOSFET易驱动的特点又具有功率晶体管电压、电流容量大等优点。其频率特性介于MOSFET与功率晶体管之间,工作于几十kHz频率范围内。故在较高频率的大、中功率应用中占据了主导地位。
1 e! w3 T0 f3 v' x  A1 {IGBT是强电流、高压应用和快速终端设备用垂直功率MOSFET的自然进化。由于实现一个较高的击穿电压BVDSS需要一个源漏通道,而这个通道却具有很高的电阻率,因而造成功率MOSFET具有RDS(on)数值高的特征,IGBT消除了现有功率MOSFET的这些主要缺点。虽然最新一代功率 MOSFET 器件大幅度改进了RDS(on)特性,但是在高电平时,功率导通损耗仍然要比IGBT 技术高出很多。较低的压降,转换成一个低VCE(sat)的能力,以及IGBT的结构,同一个标准双极器件相比,可支持更高电流密度,并简化IGBT驱动器的原理图。- X3 U/ ?) D. V2 t+ Y5 N! D; o% Y
3 B, r  G: ~% u7 W. q- o' b- ?
IGBT结构图左边所示为一个N沟道增强型绝缘栅双极晶体管结构, N+区称为源区,附于其上的电极称为源极。P+区称为漏区。器件的控制区为栅区,附于其上的电极称为栅极。沟道在紧靠栅区边界形成。在漏、源之间的P型区 (包括P+和P-区)(沟道在该区域形成),称为亚沟道区(Subchannel region)。而在漏区另一侧的P+区称为漏注入区(Drain injector),它是IGBT特有的功能区,与漏区和亚沟道区一起形成PNP双极晶体管,起发射极的作用,向漏极注入空穴,进行导电调制,以降低器件的通态电压。附于漏注入区上的电极称为漏极。) a; C/ w; I$ u( r" U% @
6 X* ~2 _% f2 \7 p
& c9 C4 P2 j3 f% b. }$ b
IGBT的开关作用是通过加正向栅极电压形成沟道,给PNP(原来为NPN)晶体管提供基极电流,使IGBT导通。反之,加反向门极电压消除沟道,切断基极电流,使IGBT关断。IGBT的驱动方法和MOSFET基本相同,只需控制输入极 N-沟道MOSFET,所以具有高输入阻抗特性。当MOSFET的沟道形成后,从P+基极注入到N-层的空穴(少子),对N-层进行电导调制,减小N-层的电阻,使IGBT在高电压时,也具有低的通态电压。3 f3 B4 A1 ~+ J# r: E- W3 n

8 m) A; v# i' `9 b$ T% m
: W* X2 J0 H5 J; h# H! g/ k. A3 n- rMOS管或IGBT有三个电容,GS间,GD间,DS间,Cies、Coes 、Cres属于IGBT的极间寄生电容,是极间寄生电容理想化的概念,属于静态电气参数,单位均为pF。& W6 M3 J) _$ w: h3 R) w

' N" H$ V8 b* h2 W$ R( IGBT的极间寄生电容)

# x/ R! \2 i! i6 C9 c; B3 P0 g
# ]. M- Q% O. L- u8 v( _
3 n; J/ i  |# Y. g
Cies=CGC+CGE( 忽略CGE的存在,假设CGE是被短路的); H: D7 H/ K: P; N( g
Coes=CGC+CCE(忽略CGC的存在,假设CGE是被短路的)1 b3 g, W6 k- z; H
Cres=CGC(发射极接地,假设CCE、CGE是被交流短路的)- |4 s: c9 h" R+ \3 [
   
9 H% U* ^8 c, H, R, D; DCGC在BJT中一般也称为米勒电容,这里也同样可以称呼。Cies称为输入电容(Input capacitance); Coes称为输出电容(Output capacitance); Cres称为逆导电容 (Reverse transfer capacitance) 。
5 W0 U- [7 {- Y, \4 q/ J; R% U
1 t9 E( T! s. S' i! M. n7 T9 E; a" X% w- w( G1 a; ~
输入电容是GS间电容并上GD串DS。开启时,要把输入电容充满。输入电容越大,开启电流就要越大。还有一个指标叫Qg,也就是要开启需要转移的电荷数,这个更能直观得表示。开启时先转移Qgs,从波形上看会到miller时间,然后转移Qgd,到达十伏,这时表示管子才真正开启了。9 x, j  c4 q! S

  S: b- Y9 e: C8 F3 l6 X6 V5 `
' R: {* k8 Y6 |2 E输出电容是DS间并上GD与GS串。也就相当于在DS两端并联一个电容。3 ~+ A5 t- N" w+ ~  S
在管子开启时要先把这个电容上的电放掉,关断时要先把这个电容上电放掉,所以有时候都不用在DS间关联吸收电容,自身电容已经够用。在硬关断时,电容越大,DS两端电压上升较慢,与电流交叉点会变低,可以减小关断损耗。- k/ P- ^6 m. C# N0 f
. V& P3 v. L1 k" K
: u" I& S- f6 B* |1 U5 b. N2 S
Cres是反向电容,就是GD间的电容,在开启时必须把这个电容也充满,也就是要把Qgd转移掉,这样才能完全开启,否则在DS间电流较大时会出现驱动能力不够的情况,增加导通损耗。
8 u' r+ P1 N% E* H
+ h" U9 r6 r+ S, B. M! `
" u7 I! c* w! E4 ?+ a反向电容会影响开关速度,因为要多转移掉上面的电量,而且必须转移掉。Cies与Cres的大小会影响开关速度,越大在同等驱动电流的情况下就越慢,会增加开关损耗,但太快会产生振荡,会造成DS间电压峰值很高,反而增加损耗,得取个合适的值。一般来说,管子的Id越大,三个电容都会越大,Qg也会越大,要提供的驱动能力就越强。
, e' U5 U$ b8 M( F$ h+ o+ b! g- O5 G3 a$ z" l

7 C! L. O) F, x% p  A( M1 ~晶体管的极间寄生电容是客观存在的,无论IGBT是打开还是关闭状态,也不管是否有电压加在各个电极上。不但是IGBT,BJT、FET 乃至电子管均是如此。然而,Cies、Coes 、Cres只是考量与之相关的极间寄生电容,却忽略其他极间寄生电容的存在,即交流短路不起作用,参数中的s 即短路(Short)的意思。所以,它们是极问寄生电容的理想化概念。这种理想化的概念是为了抓住问题的主要方面,简化问题的分析。4 S4 r% u) P( o3 ^3 V- k
# i* h4 m0 q" @3 v$ E; ^1 _9 L6 I
$ }9 \& ~0 A5 N  D! g
Cies、Coes 、Cres的测量是有特定条件的。一般采用的测试条件是:VGE =0V,?=1MHz(测试信号的频率),VGE =30V。也就是说,Cies、Coes 、Cres表征的是IGBT关断条件下的极间寄生电容,属于静态参数。之所以规定Cies、Coes 、Cres测试的VCE,是因为这些数值是与VCE密切相关的。随着VCE的升高,它们的数值会迅速减小。因此这些参数主要影响的是IGBT开关特性,只有IGBT开关期间,C-E间电压才会有变化。
0 ^5 ]. h- n: D, S( _5 R1 `9 s. v' s1 e0 |* [" w0 j' j4 n+ q9 s

8 z7 b, G* W* QIGBT 在开通过程中,分为几段时间,与MOSFET类似的开通过程,也是分为三段的充电时间,只是在漏源DS电压下降过程后期,PNP晶体管由放大区至饱和过程中增加了一段延迟时间。开通时间Ton,上升时间Tr和Tr.i。还有一个时间为开通延迟时间td.on:td.on=Ton-Tr.i! T) J: H- C. y  J( R( V% b; m0 o
' f; y$ {& j8 k/ Q7 i0 T
. x  E& @% J# |" P0 `% S# r
IGBT在关断过程中,漏极电流的波形变为两段。第一段是按照MOS管关断的特性,第二段是在MOSFET关断后,PNP晶体管上存储的电荷难以迅速释放,造成漏极电流较长的尾部时间。关断时间Toff,下降时间Tf和Tf.i。trv为DS端电压的上升时间和关断延迟时间td(off)。漏极电流的下降时间Tf由图中的t(f1)和t(f2)两段组成,而总的关断时间可以称为toff=td(off)+trv十t(f),td(off)+trv之和又称为存储时间。
6 ?# }( T7 X- i9 h7 w1 ?8 ]3 ?4 N5 M* JIGBT知道少,看了这些你还懵吗?
* n" C& P) M; Q7 C( L) |; F; C) @4 G: _9 I7 q3 _+ Y8 M
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