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IGBTIGBT是MOSFET与双极晶体管的复合器件。它既有MOSFET易驱动的特点又具有功率晶体管电压、电流容量大等优点。其频率特性介于MOSFET与功率晶体管之间,工作于几十kHz频率范围内。故在较高频率的大、中功率应用中占据了主导地位。
& F$ D7 h) A; jIGBT是强电流、高压应用和快速终端设备用垂直功率MOSFET的自然进化。由于实现一个较高的击穿电压BVDSS需要一个源漏通道,而这个通道却具有很高的电阻率,因而造成功率MOSFET具有RDS(on)数值高的特征,IGBT消除了现有功率MOSFET的这些主要缺点。虽然最新一代功率 MOSFET 器件大幅度改进了RDS(on)特性,但是在高电平时,功率导通损耗仍然要比IGBT 技术高出很多。较低的压降,转换成一个低VCE(sat)的能力,以及IGBT的结构,同一个标准双极器件相比,可支持更高电流密度,并简化IGBT驱动器的原理图。
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+ i. A" ~8 `* l. hIGBT结构图左边所示为一个N沟道增强型绝缘栅双极晶体管结构, N+区称为源区,附于其上的电极称为源极。P+区称为漏区。器件的控制区为栅区,附于其上的电极称为栅极。沟道在紧靠栅区边界形成。在漏、源之间的P型区 (包括P+和P-区)(沟道在该区域形成),称为亚沟道区(Subchannel region)。而在漏区另一侧的P+区称为漏注入区(Drain injector),它是IGBT特有的功能区,与漏区和亚沟道区一起形成PNP双极晶体管,起发射极的作用,向漏极注入空穴,进行导电调制,以降低器件的通态电压。附于漏注入区上的电极称为漏极。, ?6 \" K$ P/ J- e$ E# M& E
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IGBT的开关作用是通过加正向栅极电压形成沟道,给PNP(原来为NPN)晶体管提供基极电流,使IGBT导通。反之,加反向门极电压消除沟道,切断基极电流,使IGBT关断。IGBT的驱动方法和MOSFET基本相同,只需控制输入极 N-沟道MOSFET,所以具有高输入阻抗特性。当MOSFET的沟道形成后,从P+基极注入到N-层的空穴(少子),对N-层进行电导调制,减小N-层的电阻,使IGBT在高电压时,也具有低的通态电压。
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MOS管或IGBT有三个电容,GS间,GD间,DS间,Cies、Coes 、Cres属于IGBT的极间寄生电容,是极间寄生电容理想化的概念,属于静态电气参数,单位均为pF。
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& g2 j! {8 \3 }- l4 ~( IGBT的极间寄生电容)
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4 s% w% N& Y! x/ q. TCies=CGC+CGE( 忽略CGE的存在,假设CGE是被短路的)
0 E0 H0 @/ [! _# iCoes=CGC+CCE(忽略CGC的存在,假设CGE是被短路的)( Y5 I& | m0 R2 s
Cres=CGC(发射极接地,假设CCE、CGE是被交流短路的)# W" q/ P6 M; H0 S: c
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CGC在BJT中一般也称为米勒电容,这里也同样可以称呼。Cies称为输入电容(Input capacitance); Coes称为输出电容(Output capacitance); Cres称为逆导电容 (Reverse transfer capacitance) 。3 C6 p }2 y- `7 A/ `# o
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输入电容是GS间电容并上GD串DS。开启时,要把输入电容充满。输入电容越大,开启电流就要越大。还有一个指标叫Qg,也就是要开启需要转移的电荷数,这个更能直观得表示。开启时先转移Qgs,从波形上看会到miller时间,然后转移Qgd,到达十伏,这时表示管子才真正开启了。
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输出电容是DS间并上GD与GS串。也就相当于在DS两端并联一个电容。' H# p. U% r( Q6 S" J" K, {) T7 N
在管子开启时要先把这个电容上的电放掉,关断时要先把这个电容上电放掉,所以有时候都不用在DS间关联吸收电容,自身电容已经够用。在硬关断时,电容越大,DS两端电压上升较慢,与电流交叉点会变低,可以减小关断损耗。6 o6 U, \- C1 N( Q, m0 L) W. h! p
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Cres是反向电容,就是GD间的电容,在开启时必须把这个电容也充满,也就是要把Qgd转移掉,这样才能完全开启,否则在DS间电流较大时会出现驱动能力不够的情况,增加导通损耗。. O$ W E: j* ]' [* Y
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反向电容会影响开关速度,因为要多转移掉上面的电量,而且必须转移掉。Cies与Cres的大小会影响开关速度,越大在同等驱动电流的情况下就越慢,会增加开关损耗,但太快会产生振荡,会造成DS间电压峰值很高,反而增加损耗,得取个合适的值。一般来说,管子的Id越大,三个电容都会越大,Qg也会越大,要提供的驱动能力就越强。
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晶体管的极间寄生电容是客观存在的,无论IGBT是打开还是关闭状态,也不管是否有电压加在各个电极上。不但是IGBT,BJT、FET 乃至电子管均是如此。然而,Cies、Coes 、Cres只是考量与之相关的极间寄生电容,却忽略其他极间寄生电容的存在,即交流短路不起作用,参数中的s 即短路(Short)的意思。所以,它们是极问寄生电容的理想化概念。这种理想化的概念是为了抓住问题的主要方面,简化问题的分析。- v: s0 H2 u/ c% n* Y$ f
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Cies、Coes 、Cres的测量是有特定条件的。一般采用的测试条件是:VGE =0V,?=1MHz(测试信号的频率),VGE =30V。也就是说,Cies、Coes 、Cres表征的是IGBT关断条件下的极间寄生电容,属于静态参数。之所以规定Cies、Coes 、Cres测试的VCE,是因为这些数值是与VCE密切相关的。随着VCE的升高,它们的数值会迅速减小。因此这些参数主要影响的是IGBT开关特性,只有IGBT开关期间,C-E间电压才会有变化。
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9 f! e) r. x8 v4 b: U. t: mIGBT 在开通过程中,分为几段时间,与MOSFET类似的开通过程,也是分为三段的充电时间,只是在漏源DS电压下降过程后期,PNP晶体管由放大区至饱和过程中增加了一段延迟时间。开通时间Ton,上升时间Tr和Tr.i。还有一个时间为开通延迟时间td.on:td.on=Ton-Tr.i' u* Q/ I' D: S6 U6 y$ x& v i
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$ a6 \3 A6 z9 m2 ~+ y& m. T1 sIGBT在关断过程中,漏极电流的波形变为两段。第一段是按照MOS管关断的特性,第二段是在MOSFET关断后,PNP晶体管上存储的电荷难以迅速释放,造成漏极电流较长的尾部时间。关断时间Toff,下降时间Tf和Tf.i。trv为DS端电压的上升时间和关断延迟时间td(off)。漏极电流的下降时间Tf由图中的t(f1)和t(f2)两段组成,而总的关断时间可以称为toff=td(off)+trv十t(f),td(off)+trv之和又称为存储时间。
! L1 |2 Z" S- HIGBT知道少,看了这些你还懵吗?# b! X/ n3 r* ?) m$ |: O3 G
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