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本帖最后由 alexwang 于 2018-7-2 15:23 编辑
3 J# m' p. [! C* g6 `+ ~, @0 q$ _7 F% a
3 w, i+ _/ a/ q7 _本文大纲6 E; ?$ R+ N' @( _) |
本文章分三部分:+ _# Q& U0 w8 m# ]( M
(一)wave port与lumped port的理解5 z& A) _/ P* g0 s, o8 U
(二)两种port的仿真操作用法% p0 c9 a! s0 o/ d
(三)S参数归一化的问题 C- Y4 }5 u6 ^0 {0 l7 O# P
说明:这里说的port主要是针对Ansys的HFSS电磁场全波仿真器
3 @! {# [/ H/ g% J7 T A8 ~
* Q$ B3 \4 a* Q5 |: K& u9 n简单介绍下HFSS:, N: f: _' H, u7 S" x
ANSYS HFSS,是ANSYS公司推出的三维电磁仿真软件;是世界上第一个商业化的三维结构电磁场仿真软件,业界公认的三维电磁场设计和分析的电子设计工业标准。HFSS提供了一简洁直观的用户设计界面、精确自适应的场解器、拥有空前电性能分析能力的功能强大后处理器,能计算任意形状三维无源结构的S参数和全波电磁场。HFSS软件拥有强大的天线设计功能,它可以计算天线参量,如增益、方向性、远场方向图剖面、远场3D图和3dB带宽;绘制极化特性,包括球形场分量、圆极化场分量、Ludwig第三定义场分量和轴比。使用HFSS,可以计算:
M( e+ z4 G, C) A1 K3 e① 基本电磁场数值解和开边界问题,近远场辐射问题
. r7 Z( q" A( O7 O7 U② 端口特征阻抗和传输常数; R5 F$ z! ~) }! P5 J
③ S参数和相应端口阻抗的归一化S参数
2 {9 s& i0 c/ G: P) b④ 结构的本征模或谐振解。
: B- A, S: O9 Q1 |4 r. _而且,由ANSYS HFSS和ANSYS Designer构成的ANSYS高频解决方案,是目前唯一以物理原型为基础的高频设计解决方案,提供了从系统到电路直至部件级的快速而精确的设计手段,覆盖了高频设计的所有环节。现在最新的版本应该到了ANSYS HFSS 16.- h* F% W! X( D$ L! b9 l) d! D
ANSYS workbench
# S3 k& ?1 ^/ X3 ^- f2 o
" M3 R+ @ A1 k% @, S6 D5 f2 L9 N
2两种port的仿真操作用法2 E4 q$ t5 j+ y/ J
1.微带线下wave port
( s L0 l9 [( g如图5所示,首先在背景的表面上画一个sheet,也就是长方形,长方形的高度需要为导体与参考平面的6-10倍,宽度大约为导体宽度的5倍左右,以保证wave port足够的大,能覆盖到导体周围的磁力线,减小仿真偏差,另外要保证port能够同时接触到参考平面和导体。, Y+ r( `; k: }, w/ C
# e. i# a7 s: o$ g# _, v1 K9 Q3 N
图5* z% b9 d8 p4 t) u# a
然后选中刚才所画的sheet,点击右键选中则“assign excitation”里的“wave port”然后在对话框里选好参考平面就OK了,见图6所示。
3 j& S, s- s# M3 U3 |) U$ m; m9 h
" y' P/ r6 A$ f
图6
1 @( R3 q$ y# \2.微带线下lumped port# I* I3 \) T, c9 U
如图7所示,同样需要画一个sheet,不过这个sheet没有高度宽度要求,但是它需要一边接触导体,一边接触参考平面,注意下sheet不要接触到空气盒(airbox),不然仿真时可能会报错
- t" C( O; @$ S- P) {
3 V# D. a6 g1 @7 V* I
图75 v: D; G) W6 N
然后选中刚才所画的sheet,点击右键选中则“assign excitation”里的“lumped port”然后在对话框里选好参考平面就OK了,见图8所示
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# u- E4 M5 k9 f' s! c( W- D
图8
$ o9 h. X: C9 A9 P3.带状线下wave port
7 x9 o6 ]6 b6 B+ k如图9所示,首先在背景的表面上画一个sheet,长方形的高度需要为导体与参考平面的6-10倍,宽度大约为导体宽度的5倍左右,以保证wave port足够的大,能覆盖到导体周围的磁力线,另外要保证port能够同时接触到两个参考平面和导体。
0 Y! J. B$ \4 ^ L/ } _
" g2 ` i* z* n4 D图9% y3 e. o& a/ X9 c: @7 Y
然后选中刚才所画的sheet,点击右键选中则“assign excitation”里的“wave port”然后在对话框里选好两个参考平面就OK了,见图10所示。( E4 r, I/ D& }+ F* \3 W* i% {( O
: D) @7 N5 R2 W+ W图103 V1 O4 S9 \0 }3 B/ u' \' |, W! d
4.带状线下lumped port" F8 o- M @5 Y! w
带状线下lumped port比较特殊点,因为有两个参考平面。最好下port之前将导体内缩一点以便下port,也就是说导体的边界比参考平面稍微短一点,然后在参考平面间画一个sheet,上下边必须要同时接触到两个参考平面 ,如图11所示,然后选中该sheet点右键选择“assign boundary”里的“Perfect E”设为理想电边界。) l& c! G/ i' M$ [9 ~- J9 C' [) A
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图11
5 V' I5 I4 V' c% p3 O接着类似于微带线下lumped port的做法,再画一个sheet,平行于参考平面,且垂直并接触导体和刚才设置的理想电边界,如图12所示。: x$ v; b: [* J
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图128 d% X- Z6 m7 I" z6 l8 J" e
选中刚才所画的sheet,点右键选中则“assign excitation”里的“lumped port”然后在对话框里选好参考平面(刚才设置的理想电边界)就OK了,如图13
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' x: v0 B7 G% V. M( \图130 F: q7 w: w3 t
未完待续.....6 x9 v% i4 Y( g" i& n3 e
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