《Mentor SiP系统级封装设计与仿真》出版与技术答疑！

sduking · 发表于 2013-5-9 13:38

li_suny 发表于 2012-12-11 21:43 1 l7 L! ~& T, f4 g! ~# I5 t
1.以前的公司不同阻值相同封装的电阻电容等器件是做成多个Part Number，即一一对应。# n, B" u- b& C( r+ A% V$ m
2.现在这边建库确 ...

我也遇到了这个问题，使用这种方法制作的器件，在调用的时候会出错误，ERROR： Unable to locate pin“R225-1” while attempting to connect pin to net "vcc" in the CES configuration
REMEMBER,the Common Database is not in sync with the schematic until Packager is run again under conditions that permit the direct updating of the Common DataBase.

simhfc · 发表于 2013-5-9 17:06

本帖最后由 simhfc 于 2013-5-9 17:07 编辑

li_suny 发表于 2013-5-9 12:28 0 x# U2 ^+ ?$ m* G- U2 {1 U
Er是统一、一致其实只是一种理想的假定，实际上都是有差别的。- w! _% f9 J5 I* j* X* y& Y" F) t
2 T, J- W) R3 }1 n; d
至于Er的混合算法也我曾经分析介质材料 ...

是啊，只有介质的材料比例不同，或在生产加工的过程中发生形变，间距等参数变化，其Er才会变化，比如多层PP叠加后压合了，介质层增厚了，Er常数会升高；

但导体层（也就是我们常说的铜层）金属本身不存在介电概念，且在PCB压合中几乎不发生形变在，目前的常规计算模型里是不涉及的，所以在铜层那里Er应该是固定为1；

如果有介质材料由于压合被“挤”入蚀刻铜层的间隙，那么需要重新计算介质层的厚度（也就是两个导体层的间距），而不能改动铜层的介电常数值；

这只是我目前的看法，先停在这里，留待将来再讨论，呵呵……{:soso_e113:} 很感谢前辈抽时间回复讨论！

li_suny · 发表于 2013-5-10 09:46

本帖最后由 li_suny 于 2013-5-10 09:48 编辑

sduking 发表于 2013-5-9 13:38
/ L& k* h& `- l `" f+ b我也遇到了这个问题，使用这种方法制作的器件，在调用的时候会出错误，ERROR： Unable to locate pin“R2 ...

这个问题我还真没有遇到过

li_suny · 发表于 2013-5-10 09:48

simhfc 发表于 2013-5-9 17:06 4 r9 v5 S2 S S( j8 O
是啊，只有介质的材料比例不同，或在生产加工的过程中发生形变，间距等参数变化，其Er才会变化，比如多 ...

呵呵，前辈不敢当，有问题一起讨论，共同提高吧！

sduking · 发表于 2013-5-10 22:27

li_suny 发表于 2013-5-10 09:46 7 |, z2 ]- P5 R
这个问题我还真没有遇到过

replace symbols之后一直这样，最后没有办法，只好每个器件重新放置或把器件复制一个后重新连线，package之后就没有问题了，费了很大劲

sduking · 发表于 2013-5-10 22:32

李老师，请教问题：
我的封装库有部分是从别人的原理图和PCB图中导出来的，倒过来的器件编辑时发现Associte Cells显示有三个，如
CAP:CAPC2013,
Temp_cell：CAPC2013
Temp_cell2：CAPC2013
但是不影响使用，就是编辑的时候感觉别扭，直接删除Temp_cell，Temp_cell2的时候提示cell正在被part使用，无法删除，请问有没有办法将Temp_cell，Temp_cell2删除，

li_suny · 发表于 2013-5-13 16:12

sduking 发表于 2013-5-10 22:32 ' \; L3 r' I6 c, a- J
李老师，请教问题：) _; S' J7 Z# d% H; }4 Q
我的封装库有部分是从别人的原理图和PCB图中导出来的，倒过来的器件编辑时发现A ...

你可以在Part里直接删除它们的映射关系，如下图。不能直接删除Cell的原因是：有可能别的Part也引用了这些Cell。

sduking · 发表于 2013-5-13 20:48

li_suny 发表于 2013-5-13 16:12
) d. e& x- Y3 B# X' L8 Z- A% A: x你可以在Part里直接删除它们的映射关系，如下图。不能直接删除Cell的原因是：有可能别的Part也引用了这 ...

明白了，谢谢

li_suny · 发表于 2013-5-16 13:40

sduking 发表于 2013-5-13 20:48
r/ d- s X# a# h6 J明白了，谢谢

不客气，有问题多交流！

lalasa1987 · 发表于 2013-5-21 14:26

李工，每次调整丝印的时候，丝印总是部分歪歪扭扭的，请问怎么要对齐元器件一样对齐丝印？

li_suny · 发表于 2013-5-21 15:32

lalasa1987 发表于 2013-5-21 14:26 + ?! N% ~& {) ~. D
李工，每次调整丝印的时候，丝印总是部分歪歪扭扭的，请问怎么要对齐元器件一样对齐丝印？

可以设置一个合适的Grid，然后用命令Snap to Grid!

rochjpdx021 · 发表于 2013-5-22 15:36

问楼主两个问题：
1.在mentor中画板边的时候怎么画出圆弧形的？
2.mentor中怎么拼板，画工艺边？
希望能得到楼主的回答，谢谢、谢谢、谢谢了！！！

li_suny · 发表于 2013-5-23 11:00

rochjpdx021 发表于 2013-5-22 15:36 ) L7 ~. `3 t$ ]4 N! P
问楼主两个问题：
' ^% I$ [/ X# E+ k% G1.在mentor中画板边的时候怎么画出圆弧形的？# R$ ]# Y! q1 M
2.mentor中怎么拼板，画工艺边？

1.圆弧参看下图即可画出

2.拼板要用到Fablinik XE，首先在Expedition的Setup中启动Fablinik XE license,然后在OUTPUT菜单启动Fablink XE。工艺边我没画过，还不太清楚！

benbenxiong · 发表于 2013-5-24 09:03

请教李工，我装的EE2005 SP3
在Expedition PCB画图的时候，打开一幅图，用鼠标全选后，总是复制
我什么命令也没选择啊！难道是默认有什么选项？怎么取消这个问题呢？

rochjpdx021 · 发表于 2013-5-24 09:11

li_suny 发表于 2013-5-23 11:00 / h3 N" m3 o8 t5 v) a6 A
1.圆弧参看下图即可画出8 p- E: {* {* [) m' @/ O& i# T! n
" J1 R. a5 W; W9 G- ^
2.拼板要用到Fablinik XE，首先在Expedition的Setup中启动Fablinik XE licens ...

首先，非常感谢楼主的热心回复。还有点问题想询问一下：
1.在setup中没有Fablinik XE license这一项，其它选项也没看到，百度了一下也不知道是什么东西，还有没有其它途径啊？因为我们的电路板有的很小，不拼板的话不方便生产；
2.你说的画圆弧的方法我倒是知道，但是这个对Board Outline没什么作用吧！加工时切边的时候是切Board Outline的，有的电路板外形不规则，需要画弧形，我还不知道用什么方法能画出来啊！
希望能得到楼主的回复啊，谢谢！

		自动登录	找回密码
密码			注册

《Mentor SiP系统级封装设计与仿真》出版与技术答疑！

推荐内容 /1