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《Mentor SiP系统级封装设计与仿真》出版与技术答疑!

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发表于 2012-10-8 15:31 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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x
鉴于本帖回帖数过多,查找不便,为方便讨论,本帖已关闭,任何技术问题,欢迎在本版另外发帖讨论!; {4 |+ S; g  _: D3 p
" P) |4 _7 o3 T5 N

% s& R: ~6 R2 R' gMentor市面上的参考书籍确实很少,这确实在一定程度上影响的Mentor工具的使用。$ K' U, E% i% {- j$ I+ @) P
6 a! v3 F+ e; p3 N4 ^1 X, p2 k5 D* S
《SiP系统级封装设计与仿真-Mentor Expedition Enterprise Flow高级应用指南》是一本以SiP(System in Package)技术为基础编写的,其所有的功能都是在EE 7.9.2~EE7.9.3设计平台中实现。其设计流程和PCB一样,包括:元器件建库、原理图设计、布局布线、规则设置、设计检查、生产数据输出等基本和PCB相同,PCB设计师可以参考相关章节。
; e  m) G/ y8 p# {# N& g; c5 C6 i& p1 b% S# \! R( t8 V, V7 [1 {
当然,这是一本PCB设计的提高书籍,除了PCB设计之外,本书对键合线(Wire Bonding)、芯片堆叠(Die Stacks)、腔体(Cavity)、倒装焊(Flip Chip)及重分布层(RDL)、埋入式无源元件(Embedded Passive Component)、参数化射频电路(RF)、多版图项目管理、多人实时协同设计(Xtreme)、3D实时DRC等最新的设计技术及方法做了阐述。1 D# r* A: f! J

$ Z% w9 P7 `+ o" U0 |! d如果想提高PCB设计技术,了解除了PCB之外更多新的相关设计技术,可以参考一下这本书。

$ s7 s( Z4 ]0 z
1 N- ^3 B& z' `( L' I8 i

! r+ m" A5 L6 j; z
/ B9 }/ z2 g% W: V4 v* h
) N2 Y! ~6 O9 G" E, ]

点评

支持!: 5.0
ray
支持!: 5
推荐一本版主的书:《Mentor Expedition实战攻略与高速PCB设计》  发表于 2015-1-23 16:51
支持!: 5
  发表于 2012-12-19 09:40
支持!: 5
好楼层啊  发表于 2012-11-15 15:21
支持!: 5
  发表于 2012-11-14 09:03

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发表于 2012-10-9 16:21 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-9 16:34 编辑
, G. h! v5 B3 y. x
; Q" Z9 ]6 B& A' [: r# Q0 l% cLZ是AcconSys公司的李扬工程师?
4 p0 f+ s$ h$ `- A# a/ f" g& W' S! ?/ l4 E+ I) ^* S. C
希望EDA软件供应商的代理商的精英来EDA365论坛论道!
# ]0 E" s; c' Y3 G, v; C0 W希望EDA软件官方积极参与进来!! P, r( m& A; N' x
希望EDA365论坛是EDA软件官方与民间江湖人士的交流的平台!
% X. R& e. B* D  r5 V8 K促进中国PCB Layout事业的提高和繁荣!
  f' s: t  d' q, L  a3 I也希望大家(不论官方与民间江湖人士)珍惜和爱护及支持EDA365论坛!

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 楼主| 发表于 2012-10-16 13:15 | 只看该作者
richardhjc 发表于 2012-10-16 08:54 . d2 H: g/ Q3 ~9 X' ]) Z
明白了,那也许是原理图用DC设计的,所以无法同步的关系。 谢谢。
3 U" k0 r9 A  T% [1 J% E另外请教一下,EE中有没有方便的方法 ...

6 m, V" b5 T; j- ?
* b) ^% n" i: n; A: M% G7 u
2 ^  K! b. z/ P$ O! Y/ D布线设置里有prevent loops,DRC检查里也有相关选项,可配合使用

batch DRC.PNG (204.03 KB, 下载次数: 26)

batch DRC.PNG

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 楼主| 发表于 2012-10-14 20:36 | 只看该作者
回复15楼。
9 F. J( V7 K; m8 \. Y8 I- I- m% `3 Q) R
谢谢两位的回答。现在发现,以前的原理图是design capture设计的,但是EE7.9.3却没有这个工具,而DxDesigner打开design capture的一直有问题,不知道如何解决。5 f9 u4 I9 a8 P* I
DxDesigner无法打开design capture的设计,需要转换,开始菜单 > 所有菜单 > Mentor Graphics SDD > Translators > DC2DX Translator,可以试一下。
! P. C) c# S* E% T: D* Y: y, o顺便吐槽一下,EE这么高级的软件,使用上也不是很顺手。当然我是初学者。
" T# Q( n+ I. p2 M8 b比如 plane assignment,布线后看不到,后来是用了别的方法看到的。
, v  p  G/ C2 I2 O, R3 w! d5 d正常应该是在布线模式下看得到,不知你用了何种方法看到的? , O' A& @( @4 T' e
display太多选项,不小心选择了minus display后,无法恢复到以前的。%
) b+ r1 k. k  [3 z5 ~6 D( \/ P最好保存显示设置Save Scheme,也方便以后调用。$ n' g" P) C7 ]& q& N7 C( I0 \' [
layer的颜色层指定后,不知为何有时候自己改变。
$ E6 V* M2 D+ t  _! [有可能是Display Scheme变化造成的,调用自己保存的Scheme即可。$ a' Z8 }. l- u7 g, p  k
还有比较不爽的是,无法让每个net name显示出来,所以要看net name的时候,要逐一选择。我比较习惯pin上能够显示net name,这样在布局规划的时候,比较直观。. d+ ^' c+ r0 i7 P4 F8 A. _
这个功能目前确实没有哦
) c& M" U( L  r6 ~! ~2 d然后desing capture brower,high light whole net,居然不能跨页,模糊搜索也不尽人意,sigh。; ]) T" \  z6 p* c" x: i" m
Desing capture不太熟悉,我接触的时候基本就是DX了。
7 @4 `/ s3 U  e4 Z

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发表于 2012-10-8 17:29 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-8 17:30 编辑 5 T8 y7 G% T$ Z8 X: A% C

! V  n, p7 V0 j/ X& q希望李扬先生编写一本书:以Dx-EXpedition流程,以工程项目为实例进行编写!
  m, q) |4 H0 T9 }. ~( T/ ^期待中......
$ L; l: e  k. ~" v/ N+ H# R* v2 L持人民币待购!!!

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发表于 2012-10-8 17:05 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-8 19:44 编辑
3 J( V" E  ?2 Z" N# ~- P' w: t4 \% X$ U" C1 g8 t3 A* g
顶起!7 v' B6 H9 X. F9 ~1 l# t- }
看目录,这本书应该是侧重IC版图设计的吧!
( z" [7 B2 z# {# B3 F6 D0 y+ z3 [
, }, s; ?2 P1 O2 F5 {SEE:http://www.tushucheng.com/book/3083082.html- O2 ]; r9 i' ~- E" V

/ R! M) m4 D4 j6 L  ]( A& q9 `内容提要:
8 ]/ ]/ U% J  f" y# j* h李扬、刘杨编著的《SiP系统级封装设计与仿真——高级应用指南》介绍了SiP系统级封装的发展历程,以及当今最热门的SiP技术,并对SiP技术的发展方向进行了预测。 8 V  z0 S2 y2 n, e  [
本书重点基于Mentor Expedition Enterprise Flow设计平台,介绍了SiP设计与仿真的全流程。特别对键合线(wire Bonding)、芯片堆叠(Die Stacks)、腔体(Cavity)、倒装焊(Flip Chip)及重分布层(RDL)、埋入式无源元件(Embedded Passive Component)、参数化射频电路(RF)、多版图项目管理、多人实时协同设计(Xtreme)、3D实时DRC等最新的SiP设计技术及方法做了详细的阐述。在本书的最后一章介绍了SiP仿真技术,并通过实例阐述了SiP的仿真方法。 4 n8 k  [( a( i9 I2 {2 q6 y
《SiP系统级封装设计与仿真——高级应用指南》适合SiP设计用户、封装及MCM设计用户,PCB设计的高级用户,所有对SiP技术感兴趣的设计者和课题领导者,以及寻求系统小型化、低功耗、高性能解决方案的科研工作者。目录:% f7 s2 D9 e0 c
第1章 Mentor公司SiP设计仿真平台 $ B% ?( Z0 e. h% b# c
1.1 从Package到SiP的发展 - ?+ U- h6 Y( t: Z7 q& U) f
1.2 Mentor公司SiP技术的发展 , n0 j) ~/ K$ T& l1 ~( T
1.3 Mentor SiP设计与仿真平台 . h! }2 ]  S/ Z4 J: j6 ]4 C  ?. Z
1.3.1 平台简介
" @" R2 y+ i1 A1 g1.3.2 原理图输入
; F/ k$ ^9 I0 x- X! L1.3.3 系统设计协同
# }" A+ f3 p( C1.3.4 SiP版图设计
4 u8 N. P2 j; e7 ~1.3.5 信号完整性和电源完整性仿真
1 T; H* W5 H, _% {4 ^; J1.3.6 热分析仿真 6 r) Y4 q: a2 P4 |$ f
1.3.7 Mentor SiP设计仿真平台的优势和先进性 - }$ C$ M' H) s1 p! u( Q1 M
1.4 在Mentor SiP平台中完成的项目介绍
# p/ [9 i" C( Y( S% E第2章 封装基础知识 8 S* }* i4 @7 c( @3 S0 E
2.1 封装的定义与功能 # ~# a# T$ y1 o$ t4 P+ N
2.2 封装技术的演变与发展 ( _: x$ a3 V  f/ ^
2.3 SiP及其相关技术
% E$ |+ t1 o( o5 t. z2.3.1 SiP技术的出现
! T( V" {; k1 p; c2.3.2 SoC与SiP
: s6 z. ~$ S; U6 P& n2.3.3 SiP相关的技术 : }& Z& q/ P* `/ e4 m2 Z
2.4 封装市场发展
" R( r# t5 r4 Z4 Y# h2.5 封装厂家
3 B! P) A" c2 o2.5.1 传统封装厂家 / s' D' c6 a5 ~5 O
2.5.2 不同领域的SiP封装企业
9 h% C* ?9 Q, _* i' J2.6 裸芯片提供商
9 v9 D  u$ ]7 ~9 j第3章 SiP生产流程 # f+ G/ u5 f& m$ u/ ~
3.1 BGA—主流的SiP封装形式
/ W% z8 S3 }) k( I$ E1 b6 `; Z; K3.2 SiP 封装生产流程 % C! r  F9 ^+ {. g* ?6 f
3.3 SiP封装的三要素
9 [" C/ p  C# h/ c$ Q第4章 新兴封装技术
! ]" V3 W* h# ]0 b& t; m4.1 TSV(硅通孔)技术 2 S! h. U, Q% e" Z3 H
4.1.1 TSV介绍
3 {3 b8 g3 j( m& A/ m+ ?4.1.2 TSV技术特点
/ ^$ n3 ^% w% c; X+ G" Q4.1.3 TSV的应用领域和前景
1 w- N8 M  k7 u+ ~4.2 IPD(Integrated Passive Device)技术
7 ?" h$ d6 \2 F4.2.1 IPD介绍
/ a# |) H) s$ [' `7 K9 c4.2.2 IPD的优势
; c# W$ I: `' j+ ?$ Y: f" e: k4.3 PoP(Package on Package)技术
9 h& N! Y& m; }6 q+ t7 W) K. M4.3.1 3D SiP的局限性
* l% q) F. h0 X/ \: q, n4.3.2 PoP的应用
# k: k9 y. f. U' ~- u4.3.3 PoP设计的重点 ) V: x9 V1 p2 B" {' a
4.4 代表电子产品(苹果A4处理器)
' q! N- k0 f( Q! K& C% G5 y第5章 SiP设计与仿真流程
) ]$ q, `) V& a5 J5.1 SiP的设计与仿真流程
) ?8 [' [' x" k& h5.2 Mentor环境中的设计与仿真流程
# Z3 _& J; W& X5.2.1 库的建立
+ |4 X* h8 X5 F0 W' p5.2.2 原理图设计 ) ~2 \: w& `; E& \
5.2.3 版图设计 1 l1 j% [0 l8 j) D8 A9 E- h
5.2.4 设计仿真 7 u& H- o8 l. F  ~8 N$ V
第6章 中心库的建立及管理
4 V" g' `4 I) \/ {6.1 中心库的结构 ( Y' o7 [% H2 Z( B% \! L
6.2 Dashboard介绍
9 H7 c" I" |2 n6.3 原理图符号库的建立 7 E0 `, Y* H$ T: z0 y% l6 N
6.4 裸芯片Cell库的建立
/ @9 y5 e4 O+ u* ?) ]6.4.1 创建裸芯片Padstack - b3 [! p- O9 T- L
6.4.2 创建裸芯片Cell / L) [) K* S9 d( l. @9 v
6.5 BGA Cell库的建立
  {* k$ Z! G2 H6.5.1 创建BGA Padstack * M% v$ @- a6 g7 z! J  b
6.5.2 手工创建BGA Cell 9 C: t4 h2 b5 e- F. t+ `7 d
6.5.3 使用Die Wizard创建BGA Cell
) d) g& @+ d( _. L6.5.4 LP Wizard专业建库工具
7 d$ {% ~& ~! ?  u. A( H- z6.6 Part库的建立 0 u2 L3 B+ z( H1 `
6.7 通过Part创建Cell ; K3 l/ N# r. `5 |/ w+ y0 }
第7章 原理图输入
3 Y1 s" M) ]3 K7.1 网表输入
  H( c. A, \( a: f7.2 基本原理图输入 * E  t3 I1 b- |
7.2.1 启动DxDesigner 7 S. e4 [, w& j; J
7.2.2 新建项目
2 d( \! F4 i! H7.2.3 设计检查
3 V% E( D! L  a* s% v! [7.2.4 设计规则设置
* R3 O4 z& r1 v. E" T- k3 |0 C0 ~7.2.5 设计打包Package
5 ^, ?. g, @- d! J8 T& p4 {' ^7.2.6 输出Partlist
- @% i- h$ {3 F" W, ^7.2.7 原理图中文输入 : j. i! k$ m/ [6 H& E
7.2.8 进入版图设计环境 5 h) b( V7 R2 g8 E
7.3 基于DxDataBook的原理图输入
6 }4 i( `: v: Z. J7.3.1 DxDataBook介绍
) l3 b, @3 Q, H& |/ y7.3.2 DxDataBook使用 ! p0 V) C+ X- X; Q- A9 Q2 l' s$ y% l
7.3.3 元器件属性的校验和更新 8 {$ H4 ?9 M* N7 O/ N; V: p
第8章 多版图项目管理与原理图多人协同设计 ; P2 U9 p6 ]* V4 u# r; N3 ~
8.1 多版图项目管理 3 _4 l* p  x: g& b$ A: \
8.1.1 SiP与PCB协同设计的需求
$ p. y" u$ f( v8 p( z6 B7 D& D8.1.2 多版图项目设计流程 * m5 l3 A5 v& R2 B' `. m
8.2 原理图多人协同设计
* J  |$ ]# R! ?! a2 v8.2.1 协同设计的思路
, O# C) S; n$ H: F" E) j8.2.2 原理图多人协同设计的操作方法 1 |+ C$ W' T' p6 O
第9章 版图的创建与设置 5 h/ ?8 \6 V. F1 k' Y
9.1 创建版图模板 : s; K. f! T" x& d4 c  k5 H
9.1.1 版图模板定义
: g; F" V$ R) I3 F( _9 q9.1.2 创建SiP版图模板
! k- a9 f( N) D) e4 h8 W9.2 创建版图项目
7 C/ K0 w6 a0 }: u9.2.1 创建SiP项目 6 A$ V1 H+ C- c+ Q9 B* c
9.2.2 进入版图设计环境
' D* b' x% a. P( e6 a6 p9.3 版图相关设置与操作 9 L0 y( K2 J# b( t$ `
9.3.1 版图License控制介绍
+ O' @1 ]& H3 L9.3.2 鼠标操作方法
, l2 L* o5 N8 e# F$ j2 X6 _9.3.3 三种常用操作模式 6 ^' H  B. R9 v' I
9.3.4 显示控制 Display Control
. _; S' }% L/ _/ e0 [, X. M9.3.5 编辑控制 Editor Control
- \* d* e$ `2 o4 d8 ]$ R4 S9.3.6 参数设置 Setup Parameters
- t3 G9 O: I3 W) B( f& b9.4 版图布局 # i* x# Q1 V6 V" P" u6 D
9.4.1 元器件布局 ( |) c) l4 h6 m4 j) w7 D7 f2 |
9.4.2 网络自动优化
4 @: [  ~' q& R" K; A9.5 版图中直接查看原理图-eDxD View
) ]" F) `5 V* }8 P$ G. ]9.6 版图中文输入
5 `4 ?* y" N8 ?, |) K' _第10章 约束规则管理
2 E: J: s0 z& O, y3 C10.1 CES约束编辑系统
/ W4 F# S; I" Q0 F" p10.2 方案Scheme
% Q8 f1 l6 e- i& B3 l2 L  W10.2.1 创建方案Scheme " G; [% X) G4 I' g7 Y) ?  y
10.2.2 在版图设计中应用Scheme 6 i1 ]8 N* |0 ~4 A( S
10.3 定义基板的层叠及其物理参数
  i2 u/ V1 @( a2 h/ |9 n) Q10.4 网络类规则 Net Class . B+ w8 {2 T5 j
10.4.1 创建网络类并指定网络到网络类
5 f: K& I& ?* }5 \! n# |0 q10.4.2 定义网络类规则 . I3 j& W' U5 u8 P) u
10.5 间距规则 Clearance
: q2 L, ^/ w9 n3 l2 }! d5 z10.5.1 间距规则的创建与设置 # q. O- W. T' L* q! v4 S! a9 R
10.5.2 通用间距规则
) K* Y* k8 s; z& U1 @. I- s7 ?10.5.3 网络类到网络类间距规则
3 D  B( A% y4 t! J& T10.6 约束类 Constraint Class 1 V+ V* _' n% j# H
10.6.1 新建约束类并指定网络到约束类
3 G) {  J% }% a' k: {10.6.2 电气约束分类
9 S9 F  E0 U' \- I2 L( Z# D10.6.3 编辑约束组 * B% y8 V. Z+ S9 q1 Z' p/ h( K
10.7 CES和版图数据交互
9 _5 `" W% F- ~2 H! [# ~第11章 Wire Bonding设计 4 D2 h* L& E) t6 l8 X
11.1 Wire Bonding概述
7 c3 t. b% b  Y& J/ n$ \& k11.2 Bond Wire 模型 ) t; _! p% o4 @4 o3 M
11.2.1 Bond Wire模型定义
) p( {2 Z0 ?7 a' d) m' W11.2.2 Bond Wire模型参数 7 n1 R  M5 f2 x% p; K4 Z
11.3 Wire Bonding工具栏及其应用
! y9 d' \# Y8 W) s, b! A  k6 Y11.3.1 手动添加Bond Wire
; w% F& d% k7 f. ~11.3.2 移动及旋转Bond Pad
' ]& m1 `: q! |7 l2 s' {( o11.3.3 自动添加Bond Wire及Power Ring . @! z* [! H# W, o2 W) ~
11.3.4 Bond Wire规则设置 3 b, I4 T) z  C
11.3.5 实时Bond Wire编辑器Wire Model Editor
% R* r/ m% D2 `第12章 腔体及芯片堆叠设计 ; e. L0 O1 z7 ]3 h  O+ o
12.1 腔体Cavity 9 [: S3 A+ b% r. Q( ~
12.1.1 腔体的定义 ( S; ~. `. E. k9 z
12.1.2 腔体的创建
, ?3 E( c+ G5 d1 w/ D' @12.1.3 将芯片放置到腔体中
! ]" j- F. Y9 S1 [/ j2 R12.1.4 在腔体中键合 * D" }! _% H. w
12.1.5 埋入式腔体设计及将分立器件埋入基板
, G4 S9 v9 \1 W- Y5 G7 ^3 W' l12.2 芯片堆叠 1 {) O) D; @8 c, L; |0 e4 e; b
12.2.1 芯片堆叠的概念
6 D- z4 z0 L3 a5 q% N  }4 p+ R12.2.2 芯片堆叠的创建   G# U0 k  ~! c7 o7 q- }* J/ b) M1 w  N
12.2.3 并排堆叠芯片
7 M9 X1 @5 K5 H8 H" s12.2.4 调整堆叠中芯片的相对位置
8 P6 \" m* q% p8 n% r$ E$ `* y12.2.5 芯片堆叠的键合
" F% d' L+ I0 W; K4 h第13章 FlipChip及RDL设计
8 b7 ]/ @/ e" h6 V% J13.1 FlipChip的概念及特点
3 ^& _0 U- x3 ?2 y, Z# i( [13.2 RDL的概念
3 }2 ]" j- B% u) N13.3 RDL设计
" R& s! h( o5 v13.3.1 Bare Die及RDL库的建立 & H+ w$ o0 w. |
13.3.2 RDL原理图设计
! z" \" `* B* p2 W9 X( {13.3.3 RDL版图设计
% k! n1 B' C7 E/ |) @. ^13.4 FlipChip设计
) Q! u6 S5 J1 x9 E5 X13.4.1 FlipChip原理图设计 - \/ m1 @2 H5 f# `& g0 z; T
13.4.2 FlipChip版图设计 $ R0 J- }+ d2 r
第14章 布线与敷铜
% i) w* A9 D! i9 ^0 E. r, K) X6 y3 V14.1 布线 0 w9 a, Z* ^& c- D
14.1.1 布线综述 ( L' K% s5 K( W6 ?! F- H
14.1.2 手工布线
  E; `) h3 E1 A( R+ U% ^14.1.3 Plow布线模式 2 x/ p, J8 R% V; {
14.1.4 Gloss平滑模式 9 Q( N' B' @0 d  d
14.1.5 固定Fix和锁定Lock : h! e) l6 Y; s$ ~  S* c
14.1.6 层的切换
9 K2 N( G( N, U14.1.7 移动导线和过孔
: }" k+ o# [# w) R14.1.8 电路复制
& Z" D% |  ^+ u6 u# x14.1.9 半自动布线
* P3 t9 d: O* }/ i. d! a14.1.10 自动布线 , Q" s+ _; [4 g3 b: M. V; C
14.1.11 差分对布线
9 [% w0 T8 [9 l4 Z% E8 n0 j0 x1 ^14.1.12 长度控制布线 * x( z- H& O9 Y7 k, y
14.2 敷铜 % ?( n. E" Y8 V# [
14.2.1 敷铜定义 $ u4 a1 R  z5 i& r
14.2.2 敷铜设置 8 q; g$ r& M9 Z: D( x
14.2.3 绘制敷铜形状 $ e( n  A9 H, N- f! U! Q  b
14.2.4 修改敷铜形状 , ]) H2 }) L" V. ~# d1 a& S; @3 P
14.2.5 生成负片敷铜
/ v/ [, t  I- x/ T4 e! B9 y14.2.6 删除敷铜数据 - ~5 A2 @& W: M* ?
14.2.7 检验敷铜数据
0 C1 d' N" |  e/ S第15章 埋入式电阻、电容设计   V- D' F/ H+ ?9 n8 H
15.1 埋入元器件技术的发展
& W2 S) h- y0 w0 Y! W15.1.1 分立式埋入技术
- ^) r, T7 q" c. x3 K5 L15.1.2 平面式埋入技术 9 K; U8 c/ k+ A. V: R
15.2 埋入式电阻、电容的工艺和材料
% k3 \* x* I1 P0 @% F% C1 K% c+ Y15.2.1 埋入式电阻电容的工艺Processes ) z& E0 c! _, L- I3 y3 ?
15.2.2 埋入式电阻、电容的材料Materials
2 m) B7 j, D" K" e- B- w2 n5 P15.2.3 电阻材料的非线性特征 " g( |: e4 K% f; O& ]
15.3 电阻、电容自动综合 7 _6 z9 b0 |4 X* N; g4 I2 ~, ]" f
15.3.1 自动综合前的准备
$ T+ j% V' I" J4 z15.3.2 电阻自动综合
% h6 ?% @. g: R/ b15.3.3 电容自动综合
; U8 U7 Q9 Y4 G) ^  b+ \第16章 RF射频电路设计 7 h' E' x5 D1 g3 {1 u! [  w4 t7 G) ]
16.1 RF SiP技术 # O( _$ L! D, ~3 r2 ]* R" Y' Z7 Z
16.2 Mentor RF设计流程
1 C1 W' \0 b  w! d1 Z' N16.3 RF原理图设计
- m5 Y6 p, P  b3 q1 R; H# j16.3.1 RF元器件库的配置 ; s0 X; N/ B6 p, I0 q
......- ?( Q# O2 S  q
) n' [* u7 \' D

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发表于 2012-10-8 17:16 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-8 17:19 编辑
4 o# }" Q& j5 e8 s) {5 H8 b$ K: M/ w  @+ |0 y8 b
SEE:http://www.acconsys.com/News/2012/7/7rlzxl9rib.htm
2 J  ~" I, D+ u, A7 m4 h: g. r4 Q) V
奥肯思公司资深技术工程师李扬先生撰写1 S3 I8 `+ @( w: s# s$ \3 B

4 v" O  Z2 o9 f; ?6 N7 m9 L《SiP系统级封装设计与仿真-Mentor Expedition Enterprise Flow高级应用指南》一书已经由电子工业出版社正式出版发行。该书由奥肯思公司工程师和用户一起编著。# z' f+ _/ l( d+ j% A6 V
作者简介:
* ]0 ^* \. f9 i6 r/ s& G' B1 b    李扬,毕业于北京航空航天大学,获得航空宇航科学技术硕士学位。曾在中国科学院空间科学与应用研究中心,西门子公司工作,现任奥肯思公司SDD 产品线应用工程师,主要负责SiP、PCB以及系统仿真等软件的技术支持工作,已经参与和指导了国内十多款SiP、MCM、LTCC等项目,在SiP设计领域积累了丰富的经验。 ) u0 l0 H$ I* ^$ t
    刘杨,毕业于清华大学,获得电子材料与封装技术博士学位、曾在中国科学院微电子研究所工作,现任联想研究院高级研究员,从事智能手机等移动终端系统级封装及小型化技术的开发。 ( t: B9 U) X" \# m6 l3 o
内容简介:
6 X5 Z* C& i: ~1 W    本书案例基于EE7.9.2版本编写,介绍了SiP系统级封装的发展历程,以及当今最热门的SiP技术,并对SiP技术的发展方向进行了预测。本书重点基于Mentor Expedition Enterprise Flow设计仿真平台,介绍了SiP设计与仿真的全流程。特别对键合线(Wire Bonding)、芯片堆叠(Die Stacks)、腔体(Cavity)、倒装焊(Flip Chip及RDL)、埋入式无源器件(Embedded Passive)、参数化射频电路(RF)、多人实时版图协同设计(Xtreme)、3D实时DRC等最新的SiP设计技术及方法做了详细的阐述。
; |+ A) }* J% c1 h" y: S* Y3 G    本书适合SiP设计用户、封装设计用户、PCB设计的高级用户,所有对SiP技术感兴趣的设计者和课题领导者,以及寻求系统小型化、低功耗、高性能解决方案的科研工作者。 4 H- r! ?. b' [/ C4 X
              
. i( R2 A. {3 a7 X. g( L- J, V( r; ]% @3 m) B) p' U

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发表于 2012-10-9 08:48 | 只看该作者
这本书写的还是比较通俗易懂的,至于一些操作,写的还是稍微简单了些。如果在详细点就好了!还有一些设计上的东西跟印制板生产商的结合度不是很好!不过整体还是不错的!

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发表于 2012-10-9 09:17 | 只看该作者
顶楼主,一定找一本看看。

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 楼主| 发表于 2012-10-9 09:56 | 只看该作者
zhongyiwaiting 发表于 2012-10-8 17:05
& J1 m1 u* W- N9 R* a& T! b顶起!, Q0 s+ C: ?$ W6 r% b/ [) s3 n
看目录,这本书应该是侧重IC版图设计的吧!

- O% _- R6 _! X1 O这本书侧重封装、SiP基板的版图设计,除了键合线、腔体等元素外,和PCB版图设计方法是一致的。

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发表于 2012-10-9 10:04 | 只看该作者
顶起,在学习,
: e) D, [" r+ @  F果断入手!

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 楼主| 发表于 2012-10-9 15:52 | 只看该作者
谢谢 zhongyiwaiting,海龙,zxli36,mrain 顶贴支持。( [# T9 N+ G" G* ?& F

* x9 s9 }; P0 \; CSiP技术的发展在某种程度上会取代一部分PCB,尤其对那些高密度、小型化、高性能的PCB设计。

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 楼主| 发表于 2012-10-11 09:47 | 只看该作者
本帖最后由 li_suny 于 2012-10-11 09:49 编辑 0 K0 I" l8 L! G  e) i/ |2 e0 z0 ~
zhongyiwaiting 发表于 2012-10-9 16:21
# x0 W7 c: C: ?6 e. B% l$ ?0 U2 @ 希望EDA软件供应商的代理商的精英来EDA365论坛论道!- _/ D) @! z) X* F' r* q
希望EDA软件官方积极参与进来!% c& b5 b1 Y  ?: x+ v
希望EDA365论坛是EDA软件官方与民间江湖人士的交流的平台!1 S/ x& v. ~0 R; k: F0 B6 [. Y
促进中国PCB Layout事业的提高和繁荣!3 h2 L2 Q2 k, b& B7 q
也希望大家(不论官方与民间江湖人士)珍惜和爱护及支持EDA365论坛!

/ A6 V9 Y! U8 h8 L- T8 r( f, e
- S) |7 |* ?/ h您说的很有道理,谢谢您的支持!

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发表于 2012-10-11 10:24 | 只看该作者
为什么用DxDesinger7.9.3打开以前的一个project,会说是:this project cannot be opened because it does not belong to supported flows.

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 楼主| 发表于 2012-10-11 22:55 | 只看该作者
本帖最后由 li_suny 于 2012-10-11 22:58 编辑 9 o9 z' R- J. M& b3 u. _
richardhjc 发表于 2012-10-11 10:24 ( G  e" m5 H5 G; {' K
为什么用DxDesinger7.9.3打开以前的一个project,会说是:this project cannot be opened because it does  ...
# ]$ _6 D0 l! m4 v/ ?, P% ?& R
" o- v' S6 `- l& P
那有可能这个数据是RE的数据。
0 e0 M- A/ h! f+ K+ l$ S% e0 j& ^. `5 Z0 F
环境变量里设置MGC_ALLOW_EXPPCB_ON_RE_DB=1即可用Expedition工具打开RE数据(和版本也有关),但是注意,这个文件夹里面是没有网表信息的,所以不能进行前标和反标的。
4 G1 C" L! |9 B$ S( b
. K8 ?: x# N3 D) B, @4 }如果是EE的设计,看是否是EE2005的网表流程,也会有这样的提示。EE2007以后基本不建议使用网表流程了。

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发表于 2012-10-12 09:07 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-12 09:19 编辑 1 G) P$ q- C% m/ Y/ H
li_suny 发表于 2012-10-11 22:55   d, ]2 j: r# ?  A1 y
那有可能这个数据是RE的数据。# R8 B5 g0 D/ b8 @$ U

0 P7 C0 _" B) i0 f# m环境变量里设置MGC_ALLOW_EXPPCB_ON_RE_DB=1即可用Expedition工具打开 ...

! F  F9 _" F8 P# O1 ]9 {4 ?9 l" O7 V
回复:$ p- Y$ v" r8 }
如果是EE的设计,看是否是EE2005的网表流程,也会有这样的提示。EE2007以后基本不建议使用网表流程了。   
9 o$ D3 w! p7 D$ j2 u+ _      % {, n$ n; i, s5 ?8 W4 v

% i3 ^, [" b8 t  c        比较倾向OrCAD Capture+Expedition的Netlist流程,主要是OrCAD Capture的易用性和画原理图的美观性,但OrCAD Capture与Expedition的关联性不如PADS Logic+PADS Layout之间的关联性亲密., G- S5 Z1 i! W& g: ?* a0 R
      而DX+Expedition的流程中的DX画原理图就非常差强人意,在论坛上看到DX是MentorGraphics官方主推的PCB Layout前端电路原理图绘制工具,这就是EE2007之后的软件是DX+Expedition Flow,没有DC+Expedition Flow,而DC画原理图就比DX美观多多.不管是MentorGraphics官方的何种意图和战略目的,从某种意义上讲,MentorGraphics官方绑架了Expedition,""强奸""了用户的民意.
( U& C: R7 {0 ]      刚装上EE7.9.2,只看了LM工具,有改进:Hole的形状都包括,相应的热焊盘的形状也都有了.既然MentorGraphics官方主推DX+Expedition Flow,那MentorGraphics还有很多工作要做,让EDA软件易用和深入人心.我当初看上Expedition,就是看了Expedition的视频,被她布线的灵巧性和行云流水般的艺术感所诱惑.有人说CB Layout是一门艺术,只是时下的功利性, PCB Layout难......: F) b1 P! T( w7 m- Q8 E& Q
     当初,PowerPCB(PADS)俘获了很多Layout人的心,但目前的PADS实质性的改进不大,在PCB封装创建应把MentorGraphics EE的LM工具关于Hole的形状和热焊盘的形状的改进应用到PADS上,做到与时俱进!另外PADS的布线工具也应予以改进:减少人工工作量!

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发表于 2012-10-12 11:12 | 只看该作者
谢谢两位的回答。现在发现,以前的原理图是design capture设计的,但是EE7.9.3却没有这个工具,而DxDesigner打开design capture的一直有问题,不知道如何解决。; |  c/ w/ N5 F7 b
( O' v- U! q& Y8 b% g
顺便吐槽一下,EE这么高级的软件,使用上也不是很顺手。当然我是初学者。
. O% p$ a1 ^& m& C3 O1 `7 o2 W* i比如 plane assignment,布线后看不到,后来是用了别的方法看到的。
, q) C+ C& u/ h1 x/ Ndisplay太多选项,不小心选择了minus display后,无法恢复到以前的。  K) j- R1 B$ H4 Q
layer的颜色层指定后,不知为何有时候自己改变。  F5 U* @! q. S* ~
还有比较不爽的是,无法让每个net name显示出来,所以要看net name的时候,要逐一选择。我比较习惯pin上能够显示net name,这样在布局规划的时候,比较直观。% `1 Y- T, x1 N
然后desing capture brower,high light whole net,居然不能跨页,模糊搜索也不尽人意,sigh。
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