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《Mentor SiP系统级封装设计与仿真》出版与技术答疑!

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发表于 2012-10-8 15:31 | 只看该作者 |只看大图 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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x
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/ E) K2 G( }) v( j1 Z+ e5 j; H6 F3 R  f3 N: c/ F

% ^# }) h4 k) B' {2 [- j" n& Z6 yMentor市面上的参考书籍确实很少,这确实在一定程度上影响的Mentor工具的使用。
* H& V& _* J! q& b1 c
3 ~' S! a7 c: N9 N8 L《SiP系统级封装设计与仿真-Mentor Expedition Enterprise Flow高级应用指南》是一本以SiP(System in Package)技术为基础编写的,其所有的功能都是在EE 7.9.2~EE7.9.3设计平台中实现。其设计流程和PCB一样,包括:元器件建库、原理图设计、布局布线、规则设置、设计检查、生产数据输出等基本和PCB相同,PCB设计师可以参考相关章节。
6 A$ s. b* c8 a/ D; n$ E4 r; V
+ ], q5 |- }: u4 v8 w) O当然,这是一本PCB设计的提高书籍,除了PCB设计之外,本书对键合线(Wire Bonding)、芯片堆叠(Die Stacks)、腔体(Cavity)、倒装焊(Flip Chip)及重分布层(RDL)、埋入式无源元件(Embedded Passive Component)、参数化射频电路(RF)、多版图项目管理、多人实时协同设计(Xtreme)、3D实时DRC等最新的设计技术及方法做了阐述。
* ]/ \% m. V9 D; [4 z* W
) o- `# L4 E$ X* O; Y) T如果想提高PCB设计技术,了解除了PCB之外更多新的相关设计技术,可以参考一下这本书。

6 e4 k! n7 Q# Q. t

5 H- k& F; C1 `- [# y! B! F
; L4 `4 [& N* J6 W7 {; S4 Q8 g3 Y0 t
% s6 B. d! H% Q. _& R. H- l6 e9 o
+ {9 Z2 u2 S; o% m3 {

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支持!: 5.0
ray
支持!: 5
推荐一本版主的书:《Mentor Expedition实战攻略与高速PCB设计》  发表于 2015-1-23 16:51
支持!: 5
  发表于 2012-12-19 09:40
支持!: 5
好楼层啊  发表于 2012-11-15 15:21
支持!: 5
  发表于 2012-11-14 09:03

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发表于 2012-10-9 16:21 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-9 16:34 编辑 % @# V" o: E; f5 G

5 F" z) u& C1 r) Z9 D/ o& fLZ是AcconSys公司的李扬工程师?
: _. z8 k. u1 D7 r2 V! r
  V% `  L& ?# `% E4 N# L' {! h1 R0 I希望EDA软件供应商的代理商的精英来EDA365论坛论道!. y. r2 [, _! s! @5 |/ n
希望EDA软件官方积极参与进来!. F# s' f  m7 S" e
希望EDA365论坛是EDA软件官方与民间江湖人士的交流的平台!
5 }- F0 g4 C, i, @/ G' Y促进中国PCB Layout事业的提高和繁荣!
0 P0 `/ o- n; Z( V也希望大家(不论官方与民间江湖人士)珍惜和爱护及支持EDA365论坛!

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 楼主| 发表于 2012-10-16 13:15 | 只看该作者
richardhjc 发表于 2012-10-16 08:54 . N! @% V2 E- ^8 r2 Y
明白了,那也许是原理图用DC设计的,所以无法同步的关系。 谢谢。5 N6 m, a5 [1 J. B& W; f
另外请教一下,EE中有没有方便的方法 ...
3 Z5 F/ v2 {: x
) g) D: L1 s8 D# h( ~

2 X4 c- i% n0 R( ~( }布线设置里有prevent loops,DRC检查里也有相关选项,可配合使用

batch DRC.PNG (204.03 KB, 下载次数: 26)

batch DRC.PNG

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 楼主| 发表于 2012-10-14 20:36 | 只看该作者
回复15楼。- k, ?) X+ X5 X: ~) c4 j+ q1 e! ^
/ a9 W5 x0 x- v" k0 X/ F/ v: \4 X; R
谢谢两位的回答。现在发现,以前的原理图是design capture设计的,但是EE7.9.3却没有这个工具,而DxDesigner打开design capture的一直有问题,不知道如何解决。
) I1 b7 J, h! k5 W% E; eDxDesigner无法打开design capture的设计,需要转换,开始菜单 > 所有菜单 > Mentor Graphics SDD > Translators > DC2DX Translator,可以试一下。
; }3 ~. [9 R4 u, U* H9 o顺便吐槽一下,EE这么高级的软件,使用上也不是很顺手。当然我是初学者。" O  T6 r% ]* m3 `
比如 plane assignment,布线后看不到,后来是用了别的方法看到的。
: J  C6 g6 ~# u. I$ A( [正常应该是在布线模式下看得到,不知你用了何种方法看到的?
1 g6 @8 b0 U) s! R0 h; ddisplay太多选项,不小心选择了minus display后,无法恢复到以前的。%
# c: Z4 @# ^5 y9 a, r& `: k最好保存显示设置Save Scheme,也方便以后调用。! y3 m! I; ~- T3 g- @
layer的颜色层指定后,不知为何有时候自己改变。
! B" L! ?  w* G7 G2 D有可能是Display Scheme变化造成的,调用自己保存的Scheme即可。. J5 c7 f* D( \; X3 x9 f1 d' a2 V( ~
还有比较不爽的是,无法让每个net name显示出来,所以要看net name的时候,要逐一选择。我比较习惯pin上能够显示net name,这样在布局规划的时候,比较直观。% o: q% Y. D/ m* x
这个功能目前确实没有哦. }$ \" C/ F' A0 `
然后desing capture brower,high light whole net,居然不能跨页,模糊搜索也不尽人意,sigh。  ?. Y  C6 R* F+ H5 ]
Desing capture不太熟悉,我接触的时候基本就是DX了。
2 H1 b7 U& v' B) H2 J$ R, m8 r

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发表于 2012-10-8 17:29 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-8 17:30 编辑
( z* B5 |8 w! l4 A* t- n) W" H1 I. b1 j3 {' o: B! s) f
希望李扬先生编写一本书:以Dx-EXpedition流程,以工程项目为实例进行编写!6 O- z3 B. [2 a3 \; y& y2 i5 q
期待中......( d/ @" \$ `) T# ^" K# B
持人民币待购!!!

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发表于 2012-10-8 17:05 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-8 19:44 编辑
$ h& s  ]* h" X; Y0 l8 B6 o4 v& O" `: t# S1 s3 i" g: N6 @
顶起!
% a& _# P& v7 L, s看目录,这本书应该是侧重IC版图设计的吧!
9 @2 S( w7 h/ S: A- R( g% u" k4 x$ ?" e! X: H
SEE:http://www.tushucheng.com/book/3083082.html; j' N* L1 A/ S
. W& p1 j) p3 N; x) o  x, i8 d2 [
内容提要:7 Y( M% T8 X6 w1 C# R
李扬、刘杨编著的《SiP系统级封装设计与仿真——高级应用指南》介绍了SiP系统级封装的发展历程,以及当今最热门的SiP技术,并对SiP技术的发展方向进行了预测。   \( `6 ?0 A8 u
本书重点基于Mentor Expedition Enterprise Flow设计平台,介绍了SiP设计与仿真的全流程。特别对键合线(wire Bonding)、芯片堆叠(Die Stacks)、腔体(Cavity)、倒装焊(Flip Chip)及重分布层(RDL)、埋入式无源元件(Embedded Passive Component)、参数化射频电路(RF)、多版图项目管理、多人实时协同设计(Xtreme)、3D实时DRC等最新的SiP设计技术及方法做了详细的阐述。在本书的最后一章介绍了SiP仿真技术,并通过实例阐述了SiP的仿真方法。
7 h0 K6 @; N+ B) l2 i; I《SiP系统级封装设计与仿真——高级应用指南》适合SiP设计用户、封装及MCM设计用户,PCB设计的高级用户,所有对SiP技术感兴趣的设计者和课题领导者,以及寻求系统小型化、低功耗、高性能解决方案的科研工作者。目录:( I3 e8 ^- c# g, w* [$ I  ~4 d" H
第1章 Mentor公司SiP设计仿真平台 8 c+ S) a$ k8 h5 `* B' l
1.1 从Package到SiP的发展
! [9 B' |# j9 ?) E! R3 F/ ]1.2 Mentor公司SiP技术的发展
* s6 y. u$ _, r1.3 Mentor SiP设计与仿真平台 7 Z( y  S) A+ e& F0 y
1.3.1 平台简介
/ N0 o1 T, j6 T. q9 H7 z1.3.2 原理图输入 % H# r! p/ T( L$ Z) _
1.3.3 系统设计协同
0 d# j3 k& D1 ]9 s6 w# x- K7 ^, ?. v1.3.4 SiP版图设计 ( d) ~1 [2 M0 r6 g# G( ^8 f
1.3.5 信号完整性和电源完整性仿真 $ V4 Y6 K5 [- w$ o) G/ U
1.3.6 热分析仿真 6 ^, w2 M  f6 Y$ O9 q$ K
1.3.7 Mentor SiP设计仿真平台的优势和先进性
! x- T' p4 d8 j' A8 \1.4 在Mentor SiP平台中完成的项目介绍 $ b: m2 H1 l; z- ^0 N6 t
第2章 封装基础知识 3 H; _" _( `- w- Y
2.1 封装的定义与功能 ( F9 `" o1 v3 n; }2 r' m* z
2.2 封装技术的演变与发展
* `8 ^4 l. Z) Z$ b  G, c: ~3 S1 Z2.3 SiP及其相关技术
' T" n  b' e$ i" S# x& P' Y" ^2.3.1 SiP技术的出现 9 C$ P0 t( X' {& E5 ~
2.3.2 SoC与SiP 4 @3 Y2 N! k, f1 S" `0 L# i
2.3.3 SiP相关的技术 + H7 z7 s2 ]5 }
2.4 封装市场发展
$ r; `# Q# h3 n& }2.5 封装厂家 ; E* e2 I& U& L8 b8 ?: t
2.5.1 传统封装厂家 - `+ t8 `. k" e3 \( x5 `
2.5.2 不同领域的SiP封装企业 $ n" a5 o6 X: ^" X( q
2.6 裸芯片提供商 / m* Q; t0 y  x6 [( i/ c
第3章 SiP生产流程 - i. ?1 b3 G' O! l/ t# `: c+ J
3.1 BGA—主流的SiP封装形式 4 C. L. s- R: F( v
3.2 SiP 封装生产流程 / G4 V; X4 |* ~" L# \
3.3 SiP封装的三要素
! e- [/ q8 ?5 l$ S  e第4章 新兴封装技术
0 w4 b2 F/ X' Y4 n4.1 TSV(硅通孔)技术
% L+ e( B2 m& F3 a# K1 A! L4.1.1 TSV介绍 ! c/ a, s6 G( O( ]5 \
4.1.2 TSV技术特点
4 N' h8 S* `+ S' a* Y3 G4.1.3 TSV的应用领域和前景
. c$ [* J: ]5 K7 C0 R' V4.2 IPD(Integrated Passive Device)技术 9 i# X% R" R0 v9 h' I& g4 w8 }: J
4.2.1 IPD介绍
& S) E, A8 N4 n& \- f$ {4.2.2 IPD的优势
% H0 v  ~0 J5 {8 B7 k4.3 PoP(Package on Package)技术 0 a& p, g" @0 f# d, A: H
4.3.1 3D SiP的局限性
2 E  K% G6 H; M+ B) p4.3.2 PoP的应用
( V" a5 f, v  b+ l8 B8 `- P4.3.3 PoP设计的重点
- [5 H3 S& x5 C% W& m4.4 代表电子产品(苹果A4处理器) / G# W& m7 Q+ w
第5章 SiP设计与仿真流程
5 C9 b& J( b6 L( x8 b* p" }5.1 SiP的设计与仿真流程
( X- q" `5 p0 ~6 g! x5.2 Mentor环境中的设计与仿真流程
- h& K+ i" o9 q; v# \0 _1 R; ?5.2.1 库的建立 1 Y# H$ w+ L. L# Y
5.2.2 原理图设计
7 I+ ~! D& F8 W0 Z. Q% K1 y4 u/ {5.2.3 版图设计 0 Q3 z* e! o+ C2 N" c
5.2.4 设计仿真 2 ]5 G" @1 h9 c! k2 n
第6章 中心库的建立及管理
4 |- v  ]. P$ t: t6.1 中心库的结构
& V3 E/ L6 t: n0 d$ j% S; M6.2 Dashboard介绍
" s6 J8 V; T& N5 D$ `( V$ }6.3 原理图符号库的建立
! N* `5 a8 A+ c& c, }6.4 裸芯片Cell库的建立
5 L+ j* n; Q* X! C* C+ U% X0 S3 ]6.4.1 创建裸芯片Padstack . }6 j3 d# \( C4 Q) Z2 T
6.4.2 创建裸芯片Cell 9 ?8 i1 r3 Y. L+ y% e5 x+ w- y" i
6.5 BGA Cell库的建立
% N2 ?( S/ M) ^: S8 m" S- `6.5.1 创建BGA Padstack
, Y% `/ x0 `* \- A" m. k4 J9 S6.5.2 手工创建BGA Cell
# V& a3 }  s( [" @8 z1 S7 H3 N6.5.3 使用Die Wizard创建BGA Cell & o# \3 V3 @, L8 L" X8 P
6.5.4 LP Wizard专业建库工具
0 P" k$ [% q! R. x. ]# U6.6 Part库的建立
$ U, Z. f/ i9 D0 c- F+ v6.7 通过Part创建Cell $ S% H; g/ Z$ l& n; J; k
第7章 原理图输入
! @3 r/ M' s. ]! d! S3 z7.1 网表输入
: u7 G  h% u0 B7.2 基本原理图输入
) ]9 B* Y8 p  G5 G7.2.1 启动DxDesigner ! J: C1 {* I( m3 H- b; R' ^& _# M
7.2.2 新建项目 9 ^2 y" N: M, E: Y
7.2.3 设计检查
: G' _# B% R7 @3 w  K& H7.2.4 设计规则设置 + W) B  Y- y3 H* D0 \
7.2.5 设计打包Package - S# b7 i- t( a1 f! Z! ?) Y
7.2.6 输出Partlist
( X; ]+ a. H( p! [( N7.2.7 原理图中文输入
& C4 I% y- ?, T6 I% s% x8 e: ~7.2.8 进入版图设计环境
% j5 x$ M/ `' s7.3 基于DxDataBook的原理图输入
- i8 y9 X( {) {& r; a* p4 G( B7.3.1 DxDataBook介绍 ( A) o- K" k( ~4 ~7 ?1 ^' T
7.3.2 DxDataBook使用
9 Y* ^" Y0 c4 C  G8 J7.3.3 元器件属性的校验和更新 " }) N! _4 S6 c  J
第8章 多版图项目管理与原理图多人协同设计 # L+ m- C; f9 j: H3 X  ?3 {9 x8 y
8.1 多版图项目管理
: H; \) o8 E; ~/ u5 \8.1.1 SiP与PCB协同设计的需求
$ I9 a5 @5 m2 M8.1.2 多版图项目设计流程 ' ^' r4 \  \5 [  _; q4 f5 y
8.2 原理图多人协同设计 - F7 j' U. i2 j" F( I1 n, l1 B$ p
8.2.1 协同设计的思路 ' \5 w6 c: w$ k. V; ~
8.2.2 原理图多人协同设计的操作方法
2 V9 Q* C9 U) j& q) |第9章 版图的创建与设置
3 C8 Q) F- ?  E' e6 r8 m9.1 创建版图模板 . [: K$ W# Z' c! O
9.1.1 版图模板定义 % {8 H" t5 G2 V+ u
9.1.2 创建SiP版图模板
; G: x0 ~6 N- u" k: g9.2 创建版图项目 % b& Z; e% e1 ~5 n
9.2.1 创建SiP项目
) ^# p, Q0 I3 P$ Y9.2.2 进入版图设计环境
% s7 _) ]6 {# @9.3 版图相关设置与操作
9 X* O# i* y* T: G1 d4 [9.3.1 版图License控制介绍 " x7 S0 w; [8 d  B4 {) H) }
9.3.2 鼠标操作方法 ' b8 ?' ?7 H) F1 h8 w( \
9.3.3 三种常用操作模式 4 Z" g1 y$ V8 g. ~1 a4 u3 s
9.3.4 显示控制 Display Control ) _6 f/ ]5 V* `. J. T/ W6 W
9.3.5 编辑控制 Editor Control
( H, p- U2 t$ D/ i9.3.6 参数设置 Setup Parameters
+ |( l$ _& Y3 |" `9 o) Z6 H  P5 k9.4 版图布局
: V& y# A) ~: \! {: A- o9.4.1 元器件布局
$ G5 X, B; {$ N; e( V9.4.2 网络自动优化 $ W3 t6 X- r5 s) j7 z. H  y
9.5 版图中直接查看原理图-eDxD View 0 n# F# f6 A7 S
9.6 版图中文输入 4 O- E+ Q9 @! }" Q4 ^2 L" j' M8 a$ ~
第10章 约束规则管理 0 c: k" a) a# t9 Q3 F7 [& S" {
10.1 CES约束编辑系统
$ V' I, Y& I; k" Z! E1 u( x5 h- I10.2 方案Scheme
0 S. v, ?2 F8 V* n" ]10.2.1 创建方案Scheme ! V9 W( R. k3 A* `, v9 l" v
10.2.2 在版图设计中应用Scheme 3 \$ c% K" A( [" U0 e& a
10.3 定义基板的层叠及其物理参数
5 Y* B' [% @6 V- ~( m- m10.4 网络类规则 Net Class 3 w6 Q4 X4 H# ]$ X
10.4.1 创建网络类并指定网络到网络类
0 p: }; L* v! S0 r- b1 p$ U10.4.2 定义网络类规则 ( P/ O5 M7 a0 S( a
10.5 间距规则 Clearance & c  ?' v. M0 J9 U' e
10.5.1 间距规则的创建与设置
9 Y8 h/ o1 P7 o8 q10.5.2 通用间距规则 + m3 m7 h% \3 r/ |
10.5.3 网络类到网络类间距规则
! }' x. n2 e0 o! t) [10.6 约束类 Constraint Class
+ F. D+ h) P/ M10.6.1 新建约束类并指定网络到约束类
8 ]9 n: w: m2 o10.6.2 电气约束分类 " c. s- w+ ?: [2 R$ t5 E* D& O
10.6.3 编辑约束组
- L1 Q* e2 |9 L" [1 ~10.7 CES和版图数据交互 6 ~( |& @; E- _9 U+ b0 h# [# [
第11章 Wire Bonding设计
! A5 k: Z( Z- C! v, U/ p8 h/ A11.1 Wire Bonding概述
( |) ?0 A* F! @: Y0 u8 ?4 O11.2 Bond Wire 模型
; K7 C( k6 n2 u! u11.2.1 Bond Wire模型定义
$ Y* t  K4 S+ \7 X0 C" P* S11.2.2 Bond Wire模型参数
5 l7 l* V7 y3 }6 [6 T11.3 Wire Bonding工具栏及其应用 0 [* m2 S0 J) E  N# d
11.3.1 手动添加Bond Wire
6 n) `! C. k+ K. I11.3.2 移动及旋转Bond Pad " _  z, I8 D. l2 Q
11.3.3 自动添加Bond Wire及Power Ring 2 F* Y7 X$ i# z7 A( v
11.3.4 Bond Wire规则设置
& I$ u1 t8 R. [$ c; }11.3.5 实时Bond Wire编辑器Wire Model Editor
- `" \& B* t2 G: s' F第12章 腔体及芯片堆叠设计 4 ]3 r9 i( ~# K, V  w- w# N
12.1 腔体Cavity
$ P( ~( ?' x' j( Z: N  `! B9 q12.1.1 腔体的定义 # I" `) ?. ~, ^& \2 i* C
12.1.2 腔体的创建 9 ~, f; _4 ?: E3 S
12.1.3 将芯片放置到腔体中
  g$ B; b: A( K* u0 F( c) I( |12.1.4 在腔体中键合 % [) v' z/ \: s2 E! H  A3 s
12.1.5 埋入式腔体设计及将分立器件埋入基板
  @% }2 D  a. `7 ?12.2 芯片堆叠 , a+ S; D. b  |7 j/ `$ d
12.2.1 芯片堆叠的概念 + ~6 C6 g, j' }+ v) V" v
12.2.2 芯片堆叠的创建
# Q! S" u. K; N6 C& S( w- r12.2.3 并排堆叠芯片
; @2 N) y, e/ D" p12.2.4 调整堆叠中芯片的相对位置
1 z/ f* [" m; J5 ^12.2.5 芯片堆叠的键合
" Z5 h( I7 G' J4 m" Q第13章 FlipChip及RDL设计   K' w  E6 _+ ?* F) T0 s
13.1 FlipChip的概念及特点 1 w3 @7 Q. `- k2 T
13.2 RDL的概念 8 |: X6 o! \, ~+ N1 n2 X7 t
13.3 RDL设计
) d0 \9 w) q( K; W  E/ C13.3.1 Bare Die及RDL库的建立   _) }# Z* U8 g4 e* r$ n9 Q
13.3.2 RDL原理图设计
3 n$ C+ _+ @  V# Y% ~13.3.3 RDL版图设计 ' i3 M( E3 [2 V8 J* B1 a  f
13.4 FlipChip设计 6 F4 R0 W* F& S4 _1 i
13.4.1 FlipChip原理图设计
, ], }( _2 O4 Z+ E) Z13.4.2 FlipChip版图设计 , _4 u( i; h7 D7 H
第14章 布线与敷铜   i2 m$ X$ u% o9 {8 c$ ^
14.1 布线
" ]4 p" T6 E5 Y" {$ e14.1.1 布线综述
4 Z- {* }# G/ Z& X14.1.2 手工布线 . b3 Q8 p- m/ x
14.1.3 Plow布线模式
0 k% @: M1 I* T% t4 l0 l14.1.4 Gloss平滑模式
+ ~2 [+ ]3 l! s+ x) B6 ?2 z14.1.5 固定Fix和锁定Lock , j8 s& B7 B$ J3 H7 i6 b2 Q% p$ n6 n
14.1.6 层的切换 " {) H' i& G$ K9 n: y+ ?( l& p" D7 s
14.1.7 移动导线和过孔 . d6 v( K6 c# T0 e/ V' n
14.1.8 电路复制
; Q1 u5 {& ]3 u: D14.1.9 半自动布线 3 k& ]( H% l& _+ M/ h0 o8 h
14.1.10 自动布线
+ v, V. G: c+ k! c# S  y2 Z& B14.1.11 差分对布线
5 c" `2 M5 L3 H; D14.1.12 长度控制布线 / z. }+ {6 Q# X1 C1 Q
14.2 敷铜 6 V  o* i. F7 o
14.2.1 敷铜定义 * r( v7 g" B8 J$ D0 E
14.2.2 敷铜设置 4 M- f. l: B3 Q. o; [% N
14.2.3 绘制敷铜形状   B9 w4 g0 W5 J
14.2.4 修改敷铜形状
: K- L% I% q* [14.2.5 生成负片敷铜 . @3 X3 J" C# T' j7 d# W
14.2.6 删除敷铜数据
: G. x) \3 W. U  s14.2.7 检验敷铜数据 $ u1 m# b3 d/ ~. n+ R
第15章 埋入式电阻、电容设计
, y+ t! l/ B2 M# p, ^6 o" D: i15.1 埋入元器件技术的发展
) l" f$ C( z( @$ x& W. _& H! z8 a15.1.1 分立式埋入技术 * |+ c7 Z) x9 Z; t
15.1.2 平面式埋入技术
. v# O' ~  D. r15.2 埋入式电阻、电容的工艺和材料
. h6 i3 v! V' i" Z* ^: `15.2.1 埋入式电阻电容的工艺Processes + t8 i6 }: p1 i2 t1 L& O( `7 W- e
15.2.2 埋入式电阻、电容的材料Materials
9 C7 N# m0 A9 Z4 L6 B15.2.3 电阻材料的非线性特征
* ]" m: M6 o+ c; G' q15.3 电阻、电容自动综合 ! D: `' d/ |& |# @0 t, x
15.3.1 自动综合前的准备
' E& z2 ~5 U) S& M15.3.2 电阻自动综合
% {$ `" X+ a( o# u) {15.3.3 电容自动综合
/ T5 p& Q* [( `8 z$ Y3 a- O6 d1 y第16章 RF射频电路设计
5 d9 ], W9 ]; G2 K- c16.1 RF SiP技术
. o, S4 N! y6 i16.2 Mentor RF设计流程 2 u8 x# O* A6 A4 E+ M. X1 ?
16.3 RF原理图设计
! l$ i7 c' S6 v+ S# h16.3.1 RF元器件库的配置
; G' x" {1 W: ?% e. D5 B) V% Z......
2 j/ {! F" P0 k% o2 T; F/ E1 x. H3 P# {" N

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发表于 2012-10-8 17:16 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-8 17:19 编辑
. _* H' e; G. Z5 u+ x" d
8 _2 L0 h1 d& L! Y1 FSEE:http://www.acconsys.com/News/2012/7/7rlzxl9rib.htm
& F+ C. }9 z) G% c0 s* t  N) J" I' g2 L% B4 d# p
奥肯思公司资深技术工程师李扬先生撰写
9 C2 Y+ r% g" p: [) l& F( e+ m; y! M7 |! R. f! N
《SiP系统级封装设计与仿真-Mentor Expedition Enterprise Flow高级应用指南》一书已经由电子工业出版社正式出版发行。该书由奥肯思公司工程师和用户一起编著。
, [* _  w4 h" B. D  h, o  W7 p; e作者简介:
* @& F. N1 d0 T3 g. Y6 t# f    李扬,毕业于北京航空航天大学,获得航空宇航科学技术硕士学位。曾在中国科学院空间科学与应用研究中心,西门子公司工作,现任奥肯思公司SDD 产品线应用工程师,主要负责SiP、PCB以及系统仿真等软件的技术支持工作,已经参与和指导了国内十多款SiP、MCM、LTCC等项目,在SiP设计领域积累了丰富的经验。
/ x2 F: Q0 p" Q7 G! [$ |    刘杨,毕业于清华大学,获得电子材料与封装技术博士学位、曾在中国科学院微电子研究所工作,现任联想研究院高级研究员,从事智能手机等移动终端系统级封装及小型化技术的开发。
# P% \0 r, c" y  U+ X内容简介: # ~0 l$ f( Q% q, p8 k' X" R
    本书案例基于EE7.9.2版本编写,介绍了SiP系统级封装的发展历程,以及当今最热门的SiP技术,并对SiP技术的发展方向进行了预测。本书重点基于Mentor Expedition Enterprise Flow设计仿真平台,介绍了SiP设计与仿真的全流程。特别对键合线(Wire Bonding)、芯片堆叠(Die Stacks)、腔体(Cavity)、倒装焊(Flip Chip及RDL)、埋入式无源器件(Embedded Passive)、参数化射频电路(RF)、多人实时版图协同设计(Xtreme)、3D实时DRC等最新的SiP设计技术及方法做了详细的阐述。 . k8 E/ g( X4 u" K0 `& c
    本书适合SiP设计用户、封装设计用户、PCB设计的高级用户,所有对SiP技术感兴趣的设计者和课题领导者,以及寻求系统小型化、低功耗、高性能解决方案的科研工作者。
( A1 M7 ^) p. c# ^              
/ x, N. d( a6 i( s2 W( n5 Y9 A3 u' ]$ e( W

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发表于 2012-10-9 08:48 | 只看该作者
这本书写的还是比较通俗易懂的,至于一些操作,写的还是稍微简单了些。如果在详细点就好了!还有一些设计上的东西跟印制板生产商的结合度不是很好!不过整体还是不错的!

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发表于 2012-10-9 09:17 | 只看该作者
顶楼主,一定找一本看看。

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 楼主| 发表于 2012-10-9 09:56 | 只看该作者
zhongyiwaiting 发表于 2012-10-8 17:05
" [1 q' q0 [1 C% d2 Y顶起!
7 l. j# i- l1 i看目录,这本书应该是侧重IC版图设计的吧!

: F- ], i5 x$ g$ u/ J7 f这本书侧重封装、SiP基板的版图设计,除了键合线、腔体等元素外,和PCB版图设计方法是一致的。

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发表于 2012-10-9 10:04 | 只看该作者
顶起,在学习,
) }: t! L$ L4 T; r果断入手!

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 楼主| 发表于 2012-10-9 15:52 | 只看该作者
谢谢 zhongyiwaiting,海龙,zxli36,mrain 顶贴支持。9 l& @2 B0 e4 H7 ]. Q: @1 C( c$ }

, s2 C9 Y3 D- h7 I- ESiP技术的发展在某种程度上会取代一部分PCB,尤其对那些高密度、小型化、高性能的PCB设计。

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 楼主| 发表于 2012-10-11 09:47 | 只看该作者
本帖最后由 li_suny 于 2012-10-11 09:49 编辑
5 Q: G0 f3 u( }
zhongyiwaiting 发表于 2012-10-9 16:21
7 N) q/ N2 w; r7 Z4 T8 j 希望EDA软件供应商的代理商的精英来EDA365论坛论道!; ^$ Z+ q$ a  P! l/ u0 @2 O9 D4 T
希望EDA软件官方积极参与进来!
$ ?' B* t( l! p" c9 c. B0 y 希望EDA365论坛是EDA软件官方与民间江湖人士的交流的平台!. d& _9 U/ t  K* f
促进中国PCB Layout事业的提高和繁荣!+ _5 M# L4 Z4 F8 e) w- S
也希望大家(不论官方与民间江湖人士)珍惜和爱护及支持EDA365论坛!

1 N# d8 y+ p( ]4 M+ a
8 v' r. P3 M' P5 I1 d您说的很有道理,谢谢您的支持!

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发表于 2012-10-11 10:24 | 只看该作者
为什么用DxDesinger7.9.3打开以前的一个project,会说是:this project cannot be opened because it does not belong to supported flows.

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 楼主| 发表于 2012-10-11 22:55 | 只看该作者
本帖最后由 li_suny 于 2012-10-11 22:58 编辑
6 a2 D! D, s& M9 {/ P6 w
richardhjc 发表于 2012-10-11 10:24 5 o( q( h+ ^5 `& \0 b  S7 l/ G
为什么用DxDesinger7.9.3打开以前的一个project,会说是:this project cannot be opened because it does  ...

7 S! P3 g/ L9 w2 c4 z* H& `8 R+ j  B) F6 u. D9 R7 g0 _8 q
那有可能这个数据是RE的数据。
" [# ^  \6 J, L$ l& @
6 }7 i. D" |5 F, t环境变量里设置MGC_ALLOW_EXPPCB_ON_RE_DB=1即可用Expedition工具打开RE数据(和版本也有关),但是注意,这个文件夹里面是没有网表信息的,所以不能进行前标和反标的。
5 B9 `6 y2 K6 ?$ E; I- |; W" b6 ~/ y& f9 T
如果是EE的设计,看是否是EE2005的网表流程,也会有这样的提示。EE2007以后基本不建议使用网表流程了。

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发表于 2012-10-12 09:07 | 只看该作者
本帖最后由 zhongyiwaiting 于 2012-10-12 09:19 编辑 ; z6 a' t! u  V: y; C5 D5 m
li_suny 发表于 2012-10-11 22:55 ' p5 D, K5 Q8 i: N, R3 ~! [
那有可能这个数据是RE的数据。4 N' ~  R5 Z! c% ~; k
+ I$ ]! @3 R/ P0 T. L
环境变量里设置MGC_ALLOW_EXPPCB_ON_RE_DB=1即可用Expedition工具打开 ...
# b6 ?5 d# `) B0 ]
9 f6 H# f+ O; Q
回复:* B/ R- |8 t5 E
如果是EE的设计,看是否是EE2005的网表流程,也会有这样的提示。EE2007以后基本不建议使用网表流程了。   
8 `+ X0 X0 A6 U) \8 h8 R  I8 r      ( G/ z$ r7 y$ z" s% s
% y, z7 o0 b0 k. ?
        比较倾向OrCAD Capture+Expedition的Netlist流程,主要是OrCAD Capture的易用性和画原理图的美观性,但OrCAD Capture与Expedition的关联性不如PADS Logic+PADS Layout之间的关联性亲密.' F- w2 r' Z0 J
      而DX+Expedition的流程中的DX画原理图就非常差强人意,在论坛上看到DX是MentorGraphics官方主推的PCB Layout前端电路原理图绘制工具,这就是EE2007之后的软件是DX+Expedition Flow,没有DC+Expedition Flow,而DC画原理图就比DX美观多多.不管是MentorGraphics官方的何种意图和战略目的,从某种意义上讲,MentorGraphics官方绑架了Expedition,""强奸""了用户的民意.
1 u; x$ P  a1 p% s" ~      刚装上EE7.9.2,只看了LM工具,有改进:Hole的形状都包括,相应的热焊盘的形状也都有了.既然MentorGraphics官方主推DX+Expedition Flow,那MentorGraphics还有很多工作要做,让EDA软件易用和深入人心.我当初看上Expedition,就是看了Expedition的视频,被她布线的灵巧性和行云流水般的艺术感所诱惑.有人说CB Layout是一门艺术,只是时下的功利性, PCB Layout难......
4 u4 v; k8 v" X6 G- e     当初,PowerPCB(PADS)俘获了很多Layout人的心,但目前的PADS实质性的改进不大,在PCB封装创建应把MentorGraphics EE的LM工具关于Hole的形状和热焊盘的形状的改进应用到PADS上,做到与时俱进!另外PADS的布线工具也应予以改进:减少人工工作量!

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发表于 2012-10-12 11:12 | 只看该作者
谢谢两位的回答。现在发现,以前的原理图是design capture设计的,但是EE7.9.3却没有这个工具,而DxDesigner打开design capture的一直有问题,不知道如何解决。
  X6 h5 u9 G4 l& Q; D% N5 u6 N/ T) A! x2 r( w0 Q, V
顺便吐槽一下,EE这么高级的软件,使用上也不是很顺手。当然我是初学者。4 N5 G) W4 i' W  V% `- _9 u2 z
比如 plane assignment,布线后看不到,后来是用了别的方法看到的。
" _9 Z) y8 s- N2 e# |) zdisplay太多选项,不小心选择了minus display后,无法恢复到以前的。
: ~. g  t  \+ R' Blayer的颜色层指定后,不知为何有时候自己改变。
) t  m$ v% E' Z9 A还有比较不爽的是,无法让每个net name显示出来,所以要看net name的时候,要逐一选择。我比较习惯pin上能够显示net name,这样在布局规划的时候,比较直观。/ B5 |  Y: a. @" j$ \4 S6 @4 V
然后desing capture brower,high light whole net,居然不能跨页,模糊搜索也不尽人意,sigh。
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