|
EDA365欢迎您!
您需要 登录 才可以下载或查看,没有帐号?注册
x
学过模拟电路,但都忘得差不多了。重新学习MOS管相关知识,大多数是整理得来并非原创。如有错误还请多多指点!
' E# c3 z3 x& C, ]
! ?+ @( p( ?4 V+ n先上一张图
- J; [* _7 B% u# d+ a
1 K% ~4 w. k% u$ f R* H9 U![]()
' Y* t, h8 y+ W/ E y3 [ 8 J! [# [' H9 w/ a% x6 `
# W. ^3 ~% d6 Q: j5 `% ~( p5 O一、 一句话MOS管工作原理
; s1 Z6 r3 d* Y [ NMOS的特性,Vgs大于一定的值就会导通,适合用于源极接地时的情况(低端驱动),只要栅极电压达到一定电压(如4V或10V, 其他电压,看手册)就可以了。, ]1 t9 m4 C) q: |5 d
PMOS的特性,Vgs小于一定的值就会导通,适合用于源极接VCC时的情况(高端驱动)。但是,虽然PMOS可以很方便地用作高端驱动,但由于导通电阻大,价格贵,替换种类少等原因,在高端驱动中,通常还是使用NMOS。
* i( J+ H' E/ v0 w* z1 n9 `/ O+ ~; M' q
- S* l, |$ M. a, z$ S
二、
/ Z& d( g9 R9 S3 n在使用MOS管设计开关电源或者马达驱动电路的时候,大部分人都会考虑MOS的导通电阻,最大电压等,最大电流等,也有很多人仅仅考虑这些因素。这样的电路也许是可以工作的,但并不是优秀的,作为正式的产品设计也是不允许的。: W/ Y7 W& H& a
1,MOS管种类和结构
4 t: G4 u/ s$ u& j, r8 J MOSFET管是FET的一种(另一种是JFET),可以被制造成增强型或耗尽型,P沟道或N沟道共4种类型,但实际应用的只有增强型的N沟道MOS管和增强型的P沟道MOS管,所以通常提到NMOS,或者PMOS指的就是这两种。
4 F, S! o4 U. h0 q' n& o/ B 至于为什么不使用耗尽型的MOS管,不建议刨根问底。6 G! w: m& H1 S) i
r. X& A& F; e. v) r 对于这两种增强型MOS管,比较常用的是NMOS。原因是导通电阻小,且容易制造。所以开关电源和马达驱动的应用中,一般都用NMOS。下面的介绍中,也多以NMOS为主。
7 L6 T- u( ^% h7 p6 H7 S: g# }# W% H MOS管的三个管脚之间有寄生电容存在,这不是我们需要的,而是由于制造工艺限制产生的。寄生电容的存在使得在设计或选择驱动电路的时候要麻烦一些,但没有办法避免,后边再详细介绍。
0 H& A5 z7 s+ {, z5 K 在MOS管原理图上可以看到,漏极和源极之间有一个寄生二极管。这个叫体二极管,在驱动感性负载(如马达、继电器),这个二极管很重要,用于保护回路。顺便说一句,体二极管只在单个的MOS管中存在,在集成电路芯片内部通常是没有的。
* r/ _! ]2 a5 o# N& T' u( S" W( @: N" S: R3 v+ c4 s
8 }6 F* j, I4 U1 y2 C. }* U" `2,MOS开关管损失. _4 X3 i' R N8 b6 D0 e! l3 H8 K
不管是NMOS还是PMOS,导通后都有导通电阻存在,这样电流就会在这个电阻上消耗能量,这部分消耗的能量叫做导通损耗。选择导通电阻小的MOS管会减小导通损耗。现在的小功率MOS管导通电阻一般在几十毫欧左右,几毫欧的也有。$ V. z R3 W6 S8 X3 J6 C' O
MOS在导通和截止的时候,一定不是在瞬间完成的。MOS两端的电压有一个下降的过程,流过的电流有一个上升的过程,在这段时间内,MOS管的损失是电压和电流的乘积,叫做开关损失。通常开关损失比导通损失大得多,而且开关频率越快,损失也越大。7 C0 [+ ^+ J) x( Y8 e
导通瞬间电压和电流的乘积很大,造成的损失也就很大。缩短开关时间,可以减小每次导通时的损失;降低开关频率,可以减小单位时间内的开关次数。这两种办法都可以减小开关损失。
6 S" a+ x2 P0 {: |+ T' J# z8 j3,MOS管驱动 `, {# w9 ~/ X7 F
跟双极性晶体管相比,一般认为使MOS管导通不需要电流,只要GS电压高于一定的值,就可以了。这个很容易做到,但是,我们还需要速度。1 |# M! c, P$ H; ?1 I# B. c
在MOS管的结构中可以看到,在GS,GD之间存在寄生电容,而MOS管的驱动,实际上就是对电容的充放电。对电容的充电需要一个电流,因为对电容充电瞬间可以把电容看成短路,所以瞬间电流会比较大。选择/设计MOS管驱动时第一要注意的是可提供瞬间短路电流的大小。' u: O5 _/ l; k; I* J. G
第二注意的是,普遍用于高端驱动的NMOS,导通时需要是栅极电压大于源极电压。而高端驱动的MOS管导通时源极电压与漏极电压(VCC)相同,所以这时栅极电压要比VCC大4V或10V。如果在同一个系统里,要得到比VCC大的电压,就要专门的升压电路了。很多马达驱动器都集成了电荷泵,要注意的是应该选择合适的外接电容,以得到足够的短路电流去驱动MOS管。
4 D- b% j* Y# A @
2 R2 D H( G( [% U, A+ y/ \ 上边说的4V或10V是常用的MOS管的导通电压,设计时当然需要有一定的余量。而且电压越高,导通速度越快,导通电阻也越小。现在也有导通电压更小的MOS管用在不同的领域里,但在12V汽车电子系统里,一般4V导通就够用了。
. S4 {6 r4 [2 U { MOS管的驱动电路及其损失,可以参考Microchip公司的AN799 Matching MOSFET Drivers to MOSFETs。讲述得很详细,所以不打算多写了。0 M; }$ B! z# z& }! v% l& W
5,MOS管应用电路" |5 N) w! x$ j/ Z8 v1 K
MOS管最显著的特性是开关特性好,所以被广泛应用在需要电子开关的电路中,常见的如开关电源和马达驱动,也有照明调光。. @; A. S; e' ~8 ?$ r( h
) w9 g! ^6 _% b p* D# `: c& s
参数含义:, Z! l9 N% \4 k" G) G, }2 a0 t0 Y
Rds(on):DS的导通电阻.当Vgs=10V时,MOS的DS之间的电阻
+ F) P9 w! o c$ |Id: 最大DS电流.会随温度的升高而降低7 T2 t3 L& R5 z( `
Vgs: 最大GS电压.一般为:-20V~+20V& k& Z+ d2 q3 ` g
Idm: 最大脉冲DS电流.会随温度的升高而降低,体现一个抗冲击能力,跟脉冲时间也有关系! z1 M9 v# o* R6 p
Pd: 最大耗散功率3 V# W. m% A- v
Tj: 最大工作结温,通常为150度和175度6 J5 o& ^- a- J/ _- ?: Y
Tstg: 最大存储温度
' k4 C$ a& f4 f1 t4 P1 H4 ZIar: 雪崩电流" B# y3 H" l" J! A% U5 I
Ear: 重复雪崩击穿能量& [/ x0 d1 ?, n
Eas: 单次脉冲雪崩击穿能量9 d/ N5 i) t `3 m& U: U! |
BVdss: DS击穿电压( R: m b F# f, t6 [
Idss: 饱和DS电流,uA级的电流
, N* i9 B8 K3 P+ I0 q0 }! CIgss: GS驱动电流,nA级的电流." e' I0 k. z' u2 N9 T7 G
gfs: 跨导, q5 a: m' _8 {5 M3 H, x. Z
Qg: G总充电电量
6 J0 ~' K2 C w! \" A' @( z$ lQgs: GS充电电量 9 J% J8 L8 T5 b
Qgd: GD充电电量* K" Z2 w) t) p/ d
Td(on): 导通延迟时间,从有输入电压上升到10%开始到Vds下降到其幅值90%的时间
) ?8 T" _9 h9 t1 L+ a' jTr: 上升时间,输出电压 VDS 从 90% 下降到其幅值 10% 的时间* k6 O+ ]- r4 `9 @) ?7 i, r
Td(off): 关断延迟时间,输入电压下降到 90% 开始到 VDS 上升到其关断电压时 10% 的时间1 r8 a' g& q! H5 h3 c
Tf: 下降时间,输出电压 VDS 从 10% 上升到其幅值 90% 的时间 ( 参考图 4) 。
5 T' h! {& Z' p( v$ k+ h1 i3 k' g5 W% SCiss: 输入电容,Ciss=Cgd + Cgs.
& h8 R* K- f7 j5 [- o1 aCoss: 输出电容,Coss=Cds +Cgd.
P* I3 E& r* @. l2 r: ECrss: 反向传输电容,Crss=Cgc.& K* [* s' g9 k' t6 I+ d3 `
" j# ]: ]" ~% H% L
. e7 L! H6 E* t3 \
总结:0 {% X, B1 x$ n% S$ u P+ }
N沟道的电源一般接在D,输出S,P沟道的电源一般接在S,输出D。$ _& f4 W3 G+ ^9 T4 l6 L8 o
增强耗尽接法基本一样。7 b) k% I* l. J; d# B
P是指P沟道,N是指N沟道。
2 g7 ?1 n9 {+ G, ~; a+ ]G:gate 栅极9 m- L! g* M- k) k K* X
S:source 源极
% L- u7 g% F) z; G3 Q5 \- e: w' z6 DD:drain 漏极8 e5 ~% n$ ]' c/ K% u, m/ D
4 g( a# r4 a* g ?) P
以RJK0822SPN的POWER MOS为例:3 J* [& M6 A1 W# x$ e
Drain to source voltage:VDSS漏源极电压80V( ?( u+ y9 v( [4 y' @4 }9 ^& Y
Gate to source voltage:VGSS ±20 门源电压这三种应用在各个领域都有详细的介绍,这里暂时不多写了。以后有时间再总结。
3 i& K" i. S1 ]# L* _7 E& Y2 F# R- M1 W: @! r: x
|
$ p: s0 _+ G" A0 D3 E
PS 百度知道的一些
. Z: O( c6 k! s0 N, s; }8 T. G3 zP沟道 P沟道的管子使用的时候你只需要记住几件事情:当栅极(G)的电压比漏极的电压(D)小5V以上(有的管子可以更低),管子就开始导通,压差越大,G和S(源极)之间的电阻就越小,损耗也就越小,但是不能太大。还有一件事情就是G和S之间的最大耐压,元器件手册上有说明。最后就是G和S之间容许通过的最大电流,这个元器件手册上写的也很清楚。说的够明白了。 N沟道( Z, G0 R# G0 `# {6 {' L8 A
结构上,N沟道耗尽型MOS管与N沟道增强型MOS管基本相似,其区别仅在于栅-源极间电压vGS=0时,耗尽型MOS管中的漏-源极间已有导电沟道产生,而增强型MOS管要在vGS≥VT时才出现导电沟道。
- _: d# k- T" i& H原因是制造N沟道耗尽型MOS管时,在SiO2绝缘层中掺入了大量的碱金属正离子Na+或K+(制造P沟道耗尽型MOS管时掺入负离子),如图1(a)所示,因此即使vGS=0时,在这些正离子产生的电场作用下,漏-源极间的P型衬底表面也能感应生成N沟道(称为初始沟道),只要加上正向电压vDS,就有电流iD。如果加上正的vGS,栅极与N沟道间的电场将在沟道中吸引来更多的电子,沟道加宽,沟道电阻变小,iD增大。反之vGS为负时,沟道中感应的电子减少,沟道变窄,沟道电阻变大,iD减小。当vGS负向增加到某一数值时,导电沟道消失,iD趋于零,管子截止,故称为耗尽型。沟道消失时的栅-源电压称为夹断电压,仍用VP表示。与N沟道结型场效应管相同,N沟道耗尽型MOS管的夹断电压VP也为负值,但是,前者只能在vGS<0的情况下工作。而后者在vGS=0,vGS>0,VP<vGS<0的情况下均能实现对iD的控制,而且仍能保持栅-源极间有很大的绝缘电阻,使栅极电流为零。这是耗尽型MOS管的一个重要特点
+ P% B0 Z' r B! l
% T1 L/ w% P/ @* X6 V) s% a |
|