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概念:电容:无论空间有多远,任何两个具有电压差的导体都存在一定量的电容。
/ ]$ \& e5 \ l3 K0 J4 [C:表示的是电容量,即存储的电荷与电压的关系的比值。当电压越大,可存储的电荷越多。7 T F: X* |7 }' N' o
影响电容量因素:两个导体距离、两个导体重叠的面积、两个导体重叠面积之间的介质。
' K1 x! R6 v: n$ K2 L- k- @2 G1 v距离越近、重叠面积越大、介质介电常数越大,则电容越大。
: Y9 S, G' z9 w. Q1 s. ~理解:减少互容的方式根本上为三条:1.拉开距离;2,减少空间上的重叠面积;3.选择低介电常数的板材;基本上PCB设计所采用的方式为1和2.
2 Y5 v% N. y" d/ I7 K8 w 电容中的电流- ]6 u' T* m( l3 H5 v8 N
流经电容器的电流 I= dQ/dt=C*dV/dt
% n0 W5 r3 j: sI:表示流过电容器的电流;
$ |7 N; Y' Y1 a, b$ Q% ld Q:表示电容器上电荷的变化量;6 P6 p* Q' V; \- N6 y# ]/ ~
dT:表示电荷变化经历的时间;
: R4 k: }' T8 A, A# bDv:表示电压变化值;" c5 T; q5 X( N9 Y5 w* Z
Dt:电压变化所经历的时间。; i i/ m5 G, e# l$ J) n8 o
理解:其实电容除了漏电流的存在,本身并不流过电流。以上所说的电流,只不过为了计算方便而采用的数学值。从原理上考虑,因为异相相吸,在正电荷聚集的地方,肯定会有负电荷聚集。而负电荷的运动,造成了负极的电流流动。(负电荷的聚集造成了使流过电容的频谱呈-90相位)。从表面上看,就像电流流过电容器一样。但是理想电容器本身不消耗能量,所存储的能量,在外界适合的时候会向外送出,这时电容器负极也会将所聚集的负电荷释放。一收一放,就把能量传递过去了。2 o1 e' ]; o) h! e+ ` M) @) v* D
平行板电容" M0 W7 z5 W7 I! i
公式:C=E0Er*A/H C= (ε_r ε_0 A)/H C:电容量; E0空气介电常数;Er 介质相对介电常数;A,平板面积。+ `8 u+ G- l. |/ U3 N
H平板间距。
( ? U5 c7 T/ I. _7 ]6 R _; A* G4 ^由于板周围存在边缘场,实际电容要大于近似值,当平行板间距与板厚想当时,板周围的边缘场产生的电容量与平行板近似预测的电容量相当。) A/ f* f( I, K( d/ _, k9 w8 f
理解:考虑边缘场,就要从电场和磁场角度来考虑,由于板并不是理论上的厚度为0的理想状态,所以板的边缘肯定也会发出磁力线向周围空间扩展,当四边的磁力线被底板接收到时,就相当于增加了底板所接收的电场磁场。变相的增加了聚集电荷的能力,所以电容增加了。# Z( ]5 V, _, s/ D+ T$ V' C
但这个值不好计算。, z9 n0 f6 ~1 L$ F
&……*%……&***去耦电容的计算:……&%……&%¥¥%
& }" o: _: A: d: tδt=C*裕量*V^2/P t:表示电压下降量达到电源电压裕量的时间,单位秒;/ C/ K2 t6 t0 f& K: C* ~9 g6 S" y
C表示去耦电容量,单位为F; 裕量:芯片的电源电压与最小供电电压的比值;
1 T2 p) Y {* s' Y* O* \9 CP表示芯片的平均功率;V表示电源电压。2 J& s4 G' t4 p3 i6 p3 D
理解:本公式可以计算去耦电容的值,对于经验用法上的10UF去耦电容,可以省略了。直接用这个来计算所想要的确切的值,留出足够的裕量,那么一个小功率的芯片完全可以采用5UF或1uF 来去耦,即可以降低成本又可以减少PCB板上的空间。3 K5 i$ a: f# S3 k6 g+ b/ M
T 所表示的时间需要参考电源芯片,即电源芯片的反应时间。% D+ Q; I, N9 B7 r+ I# z9 y
通过上面的公式,即可以设计选型电源芯片的型号。
* H9 x8 Q& U; _% F3 |9 P9 z' _单位长度电容。
( {$ r, I! A7 z; \: ^5 r' G单位长度电容是形容单位长度传输线的电容量。公式:C_L=C/L/ t0 k/ U6 J2 o: i8 H
CL:单位长度电容 单位PF/in ;(单位可自己设定);
) h6 ], G- w* Z0 V# M+ L$ N& uC:传输线与返回路径之间的电容量 ; L 传输线长度。( W, h7 q2 L. X L; B' P
; o' b+ h, A7 x% x. G: a5 A; E( K- [
同轴电缆计算公式:CL=(2πε_0 ε_r)/(ln(b/a)) a:内部信号导体的半径;b:外部返回导体的半径。, Z6 m* |6 G% \
微带线计算公式C_L=(0.67(1.41+ε_(r )))/(ln{(5.98*h)/(0.8*w+t)})≈(0.67(1.41+ε_(r )))/(ln{7.5(h/w)})# Q$ h/ h4 h0 @: c% j
CL:单位长度电容,单位为PF/in; ε_(r ):表示绝缘材料的相对介电常数;
6 D$ L" K& ~6 A- X. p4 gh:表示介质厚度;单位为mil;w表示线宽单位为mil;
5 @- B1 G" m" Y/ e8 A. d; R t表示导体厚度单位为mil。
# D: h1 T1 v% T$ b q8 _带状线计算公式C_L=(1.4ε_(r ))/(ln{(1.9*b)/(0.8*w+t)})≈(1.4ε_(r )))/(ln{2.4(b/w)}) ! z5 x/ D; Y$ V9 L% K9 z
B:表示介质厚度;其余同上。7 G1 \" n( ^" o+ l5 a
经验公式:微带线线宽如果是介质厚度的两倍即(w=2h)介电常数为4,则单位长度电容Cl=2.7pf/in 。这时微带线近视50欧姆特性阻抗。
& m6 r2 t" T% `0 }# \带状线:如果介质厚度是线宽的2倍,即b=2w;单位长度电容为3.8pf/in ;相当于特性阻抗50欧姆。1 Z1 z0 a1 N2 L: N9 y
经验法则:50欧姆特性阻抗单位长度电容大致为3.5PF/IN 。
0 D* X9 v- E3 V* D# a% M# f理解:特性阻抗的经验算法,只是大概。如果要是要求高精度,最好是实际测量,其次是计算。因为公式也是近视的。特别是板材的介电常数,随着制造工艺而有所不同。理论上裕量足够的情况下可直接采用理论算法来估计。
, O& ?) z# j! d9 K8 M" m理解:微带线经常因为刷阻焊,或者由于蚀刻。导致介电常数和介质厚度都不是常量。所以特性阻抗仅仅能预估计。如果想要精确的阻抗控制,那传输线必须走带状线,否则制造不出完美的50欧姆特性阻抗的微带线。
; B3 u+ Y6 I$ k: `7 s2 f- p$ _# h理解:电容量的值跟下平面接收电力线的多少有直接关系,与介电常数有直接关系。如果按照电磁场方向来看,即可完美理解电容量的变化。. V' I+ Q. h" l. p5 s1 y
" {- Z2 e" j1 c9 z. v& E- a9 b1 Z小结:
6 m8 ]* x2 s* L1 n z( Z4 V& ~$ _1.电容是对两导体间存储电荷能力的度量。
- k/ i& e& w2 _ U; O% ?8 i6 J2.电容量是对流动电流大小的度量。. W; _/ P4 A7 I# z7 q; Y
3.导体间的电压发生变化时,便有电流流过电容器。: m4 r8 @/ S5 e2 ^- O' u7 v
4.本章的公式都为近似值,若要求精度为10%到20%就不应使用近似。
6 j: S5 `# j8 r! v5.一般来说,导体间距越大,电容量越小;导体间重叠的面积越大,电容量也越大。7 d( W, O+ N& A! B* D! s
6.介电常数是材料固有特性,它反映的是材料使电容量增加的程度。* O$ k; d2 }, O
7.电路板上的电源平面和地平面间是有电容存在的,但这个量非常小,两平面的作用是提供低电感回路,而不是提供去耦电容。
( E0 m1 N4 \, x5 z4 \3 ^6 @5 w8.若要求精度优于10%,就不应该使用IPC的带状线和微带线公式;* p8 c5 c+ v4 Z% Y
9.用二维场求解器,可以用来计算均匀传输线结构的单位长度电容。其精度优于1%;
6 C% O0 `* u4 `9 X5 L% Y$ C9 P10.若微带线的厚度增加,单位长度电容也将增加,但增加的幅度非常小。
- N! Z D: R$ U- }11.当微带线的涂层厚度与线宽一致时,电容量将增加20%;
: c8 F8 r# L; {" f理解:IPC的公式精度为10%,在设计时能满足至少15%的精度。
1 R p& N7 S5 r$ e4 C6 F" m微带线涂层假设不够厚时,电容量增加的并不是很严重。
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