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负片层是不是只能铺铜,不能走线?走线就很多DRC,说走线和铺的铜之间没有间距

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发表于 2010-4-9 14:31 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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负片层是不是只能铺铜,不能走线?走线就很多DRC,说走线和铺的铜之间间距是0,如果能够走线应该怎么设置?
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发表于 2010-4-9 21:58 | 只看该作者
可以走线,不过不推荐这样做。
9 p# S( E. U  B  ?" c. I1 o# x  M非要走也可以,负片层的铜皮一般是静态的,不会被走线推挤,所以爆间距是0的DRC。、
: P3 B; `0 H, u) h5 G- [2 o可以手工把铜挖一下,或者用动态铜。

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 楼主| 发表于 2010-4-12 12:53 | 只看该作者
那也太痛苦了,只能用正片了。谢谢啊

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发表于 2010-4-12 13:51 | 只看该作者
负片层走线到了Gerber里面会变成分割区哦,最好还是按规矩来。混合走线层用正片很正常的,不必非得用负片。

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发表于 2010-4-20 23:02 | 只看该作者
其实是可以走线的,不过一般不在GND里走,一般在VCC层走,不过不可以直接走在VCC层上,而是要建一个VCC-IN的层面,这层属于VCC层,所以VCC-IN层只走线,不需要普铜和画Anti Ecth。但是在VCC层上要用Anti-Ecth将VCC-in层走线部分填补上,不知道这样说LZ能不能理解
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