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本帖最后由 alexwang 于 2018-7-3 09:29 编辑 ; x7 a, x+ f' i8 R
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表面粗糙度详解（四）Which roughness model is better? $ G% _: S; F8 V% v
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. @/ P% C- z$ o9 J, _- k! F( C1. 表面粗糙度( surface roughness)介绍. 3. 表面粗糙度( surface roughness)的仿真. 4.仿真与测试的比对，Which roughness model is better?
. j5 h4 ?. j. G# s$ N. h9 l! L) @2 G' D! }3 B! ^
5 W: Y: l2 d% {' v/ }+ u" N' \
关与Suface roughness铜箔表面粗糙度是指铜箔表面具有的较小间距和微小峰谷的不平度。铜箔表面粗糙度越小，则表面越光滑，反之相反。表面粗糙度与机械零件的配合性质、耐磨性、疲劳强度、接触刚度、振动和噪声等有密切关系。表面粗糙度起因于材料加工过程 7 M7 C! m! H$ y- y/ @
Which roughness model is better?1.Which roughness model is better?
3 W( z+ F$ S$ R2 DA1：Hammerstad与Huray model的效果差不多，而roughnessmodel的参数都是透过量测S parameter correlation后fitting出来的。 / F5 y+ x K T) m; N
A2：(Classic)Hammerstad只适用于粗糙度HRMS<2um，而Huraymodel无此限制，简言之，Groisse或Hammerstad model仅限于光滑表面使用，而一般制程与SI(宽带)应用，则用Huray model。另外Hammerstadmodel在较高频时(30G~)，K曲线斜率会变缓(渐渐饱和)。 7 O$ L& T/ q4 `
下面这张图则是说明只要适当的参数配置，两种model(对于较光滑的表面)可以达到非常接近的效果
1 ^. d8 u" Z+ z& r& S" F
5 K1 [- K- @& v/ s: f 上图从0~60GHz，两种model的效果都很接近的主因是：请注意左边坐标轴K系数<1.5，这表示此例属于low profile roughness 3 h! U! f2 n, _6 U3 {5 v
2. Howto simulate the resonance absorption peak at 35GHz？
?- k- X7 O& \4 bA：Itis caused from glassweaver effect.
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. U& o* i+ C0 w5 v3.Measurement v.s. Simulation / q9 N1 ?/ k8 z' s, ^6 Q
Huray Model需要定义颗粒大小a (nodule radius)，与单位面积颗粒数目N/Af (InSIwave, Huray Surface Ratio=4*pi*a2*N/Af)
- Q6 f. j: R6 F( V4.Why does characteristic impedance Zo increase to infinity while frequency decreases to zero
* A( @. M j1 a. q, J$ Y8 z* j1 H+ ?/ R% u
A：特征阻抗
(G是介质损耗所造成，通常很小)
! X; y* |* l9 R高频时
(这式子也适用于无损的传输线特征阻抗表示)
8 e8 S6 m$ s$ b8 @- h低频时
当频率趋近于0 (w®0)，Zo趋近无限大
3 a2 f2 c9 A2 |$ |# B
w6 y0 V" a% X2 n-----全文完----- ! T$ p4 c, u: D
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发表于 2016-5-13 15:56
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