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半导体器件的贮存寿命

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发表于 2015-1-19 15:53 | 只看该作者 回帖奖励 |倒序浏览 |阅读模式

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1 引言 高可靠半导体器件在降额条件(Tj=100℃)下的现场使用失效率可以小于10-8/h,即小于10FIT,按照偶然失效期的指数分布推算,其平均寿命MTTF大于108h,即大于10000年。据文献报导,电子元器件的贮存失效率比工作失效率还要小 一个数量级
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1 引言
+ Y$ L/ w' [5 q6 U' @; E1 V7 u1 e0 q& @4 D5 T( t
高可靠半导体器件在降额条件(Tj=100℃)下的现场使用失效率可以小于10-8/h,即小于10FIT,按照偶然失效期的指数分布推算,其平均寿命MTTF大于108h,即大于10000年。据文献报导,电子元器件的贮存失效率比工作失效率还要小   L, V1 w9 K) u  a
一个数量级,即小于1Fit。
4 M; E& i. r) u/ X0 u! \* D; i8 V. v: {# T* M: A( i$ l2 M
国内航天用电子元器件有严格的超期复验规定,航天各院都有自己的相应标准,其内容大同小异[1]。半导体器件在Ι类贮存条件下的有效贮存期最早规定为3年,后放宽到4年,最近某重点工程对进口器件又放宽到5年,比较随意。同时规定,每批元器件的超期复验不得超过2次。 $ b5 m1 M, |; q& G
% p- M9 t- X5 P
美军标规定对贮存超过36个月的器件在发货前进行A1分组、A2分组以及可焊性检验[2],并没有有效贮存期的规定。 ; j* G) P; z0 K  C$ P

3 V; o4 y6 a. X) |, Y在俄罗斯军用标准中,半导体器件的最短贮存期一般为25年,器件的服务期长达35年,和俄罗斯战略核武器的设计寿命30年相适应。 2 v( R- g' i' c: T, k* g; z
! C% A1 T" r# r. {& d2 [# c
然而,国内对于半导体器件的贮存寿命尤其是有效贮存期有着不同的解释,在认识上存在着误区。国内的超期复验的规定过严,有必要参考美、俄的做法加以修订,以免大量可用的器件被判死刑,影响工程进度,尤其是进口器件,订货周期长,有的到货不久就要复验,在经济上损失极大。
8 g6 ?% ~3 a, H7 ~7 J6 h  j. m0 ~' M( o# p3 _4 ^0 s
2 芯片和管芯的寿命预计 ! [5 s6 h0 D' U7 W0 [4 P' R
( c; }0 {+ m# B
高可靠半导体器件通常采用成熟的工艺、保守的设计(余量大)、严格的质量控制、封帽前的镜检和封帽后的多项筛选,有效剔除了早期失效器件。用常规的寿命试验方法无法评估其可靠性水平,一般采用加速寿命试验方法通过阿列尼斯方程外推其MTTF,其芯片和管芯的寿命极长,通常大于108h,取决于失效机构激活能和器件的使用结温。
4 @* c8 o7 {% d& C" V) Q2 p0 G. ^7 t4 i. D! s
随着工艺技术的进展,半导体器件的激活能每年大约增长3%。据报道1975年的激活能为0?6eV,1995年增长到1?0eV,其MTTF每隔15年增长一倍,加速系数每隔5年增长一倍。
6 b& ~- D- I* ]7 o& x6 a5 t
/ f  y) u+ R0 F5 ~# k8 _* i化合物半导体器件微波性能优越,可靠性高,自80年代以来,在军事领域得到了广泛的应用。已报道的GaAsFET,HBT,MMIC电路的激活能一般都大于1?5eV,即加速系数非常大。MTTF的报道在109~1011h,外推至沟道温度100℃。
& u  }& b; b5 n/ @7 e# O. l) C9 y; w3 p) R  E6 r7 S. c) O
加速寿命试验能暴露芯片或管芯的主要失效机理有:金属化条电迁移、氧化层中和氧化物与半导体界面上的可动电荷、电击穿、界面上的金属化与半导体的相互作用以及金属间化合物等。 ; r* _6 r- _/ u% y4 I  ?1 F: ]/ H9 X
( f. F4 d* V) c/ e9 X* @; r4 k
3 超期复验和有效贮存期
2 n# `4 J. m9 r6 B' B$ S
/ k" A. P6 N1 z, p/ M9 q! R由于半导体器件的芯片和管芯的寿命极长,因此超期复验的重点应关注与器件封装有关的失效机理。例如器件的外引线在多年贮存以后,有的会产生锈蚀,影响到可焊性,在装机后易产生虚焊故障和密封性不良的器件。在长期贮存中,水汽会进入管壳,产生电化学腐蚀,使内引线键合失效或电参数退化。不过对于密封性良好的器件,如漏率小于10-9Pa;m3/s,其腔体内外90%气体交换时间为20年,可以忽略外部水汽的影响。
( z7 s+ }6 V6 B- U4 [% N* a4 g8 \0 r0 e% l! @/ `+ {( x+ N; y$ J+ O
在美军标MIL-M-38510微电路总规范中规定:对制造厂存放超过36个月的微电路在发货前只要求重新进行B-3分组的可焊性试验,不要求重新进行A组检验,也没有有效贮存期的限制。俄罗斯对电子元器件的贮存性评估方法已制定了标准[3],其中有加速贮存和长期贮存两种试验方法,即使采用了加速贮存方法,也要积累多年的数据,也只能部分替代常规贮存试验。因此俄罗斯对其军用电子元器件最短贮存期限分档为15,20,25,30,35年是有充分依据的。
8 I0 e: X% ~: _5 y& [. t( R) v* m+ Q  E9 n3 w. h9 Q. D
我国航天部门提出的有效贮存期的依据并不充分,其3~5年的规定比较保守,各部门提出的规定也大同小异,建议对电子元器件制定统一的超期复验标准。有必要吸收俄罗斯的经验,因其标准体系相当严密,基础工作非常扎实,俄罗斯“和平号空间站”设计寿命为5年,而实际服务期限已超过15年,就是很好的例证。 , ]- b# n1 A+ |& D, {! a

6 h- ~( I( Y1 m5 W+ g4 半导体器件长期贮存实例 % D* R# b$ g* u# ?, v, q

  T  \! g5 |, [6 h8 j( y$ B. ]4.1 美国宇航级晶体管   v- Q# Q4 F; G$ F8 \
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JANS2N2219AL为硅npn开关晶体管, PCM为800mW,采用TO?39封装,该批器件的生产日期为1980年,数量为42支。宇航级晶体管为美国军用半导体器件中最高的产品保证等级,它体现了当时半导体器件的最高质量水平。 6 w0 |: P( D" M3 Y1 q

1 d' a+ C% b7 ^4 v: L我们从1998年开始对该批器件进行了一系列的试验和检测,并于1999年进行了报道[4]。当时任抽10支管子进行过6000h的全功率寿命试验,试验以后电参数变化极小, hFE先略微变大,过峰值后又略微变小,相对变化幅度小于2%。当时这批器件已经贮存了17年,可见长期贮存对它的使用可靠性无影响。
3 ~* G) g2 o! E/ i# E, S* L3 d9 \, D4 D+ C) G) A$ \
2006年又对全部样品进行了电参数复测,hFE和1998年的参数全部吻合,没有明显的变化,证明了宇航级器件在实验室条件下贮存寿命极长,到目前为止已经贮存26年没有发现电参数有任何退化,并且外引线镀金层厚度为3μm,气密性全部合格,内部水汽含量抽检2支为2156和2343×10-6,均小于5000×10-6,管壳内99.7%为氮气,氧含量仅为100×10-6。
) P' |. O6 O& l# W: I/ G0 c& s6 K
# C1 B6 ?. H& r* X8 W- R. y

$ m8 B& g+ H0 q0 l4.2 特军级晶体管
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JTX2N2405为硅npn开关晶体管, PCM为1W,TO-39封装,生产日期为1974年,已经贮存了32年。特军级晶体管的质量等级高于普军级(JAN),该批器件数量较大,共206支,管芯的图形较大,ICM为1A,内引线用金丝,在管芯处为球焊键合,为70年代的典型键合工艺。在贮存期间,对电参数进行过多次检测,全部符合规范要求,仅有1支管子,小电流hFE (1mA处)有退化迹象。管子的外引线镀金层质量良好,没有锈蚀现象,任抽10支样管做可焊性试验,全部合格,气密性经检测漏率小于10?9Pam3/s。 4 s. O/ c6 O! O6 `( J" J

+ b' F, A% k2 |$ P% {# X" P  e  Z0 R' @4.3 早期的宇航级晶体管 * {" ^6 b! q6 a! j
( T% o0 H& {3 s+ T- `. M
JANS2N2222A为硅小功率开关晶体管,TO-18封装,相当于国产管3DK3,该批产品共5支,生产日期为1971年,已经贮存了35年,是美国TI公司早期生产的宇航级晶体管。经电参数检测,全部符合规范要求,hFE在微电流下也没有退化。
, @5 ]7 v3 v. N" k# \  A( A" \" ]% b
* f) n: ?# D  @& ^! @1 k% I) X该管内引线采用当时典型的金丝球焊工艺,经过DPA检测,内引线键合拉力为2.9~6.5g,芯片剪切力为1.98kg。由于金丝和铝膜的键合在高温下会产生多种金铝化合物,严重时会产生开路失效,因此TI公司在80年代生产的宇航级晶体管2N2219中内引线使用铝丝超声键合工艺,消除了金铝化合物的失效模式。从DPA的数据来看,金丝球焊的键合拉力在贮存35年后,确有退化,2.9g数据为键合点脱开,6.5g为金丝拉断。该批器件的气密性良好,经检测漏率为10-9Pa;m3/s范围。 . R( q" f) w. H) c1 m; F
+ a1 c1 T& p) j( D! X$ u! |
4.4 国产晶体管长期储存实例 " N. }6 c$ K% _
0 M: i+ m. p2 Z$ F- b
国家半导体器件质量监督检验中心从1984年起对各种国产高频小功率晶体管进行了许可证确认试验,当时每个品种从工厂抽样150支,用60支分别进行高温储存、工作寿命和环境试验,其余留作仲裁用。全部样品在Ⅰ类贮存条件的试验室保存了20多年,从2006年开始进行了长期贮存器件可靠性研究,现报道其中一例。
8 J5 H( H& X9 I" N8 @' ^  r' A! H/ x- P, h
3DG79晶体管为中放AGC专用管,生产时间为1983年,对库存100多支样管进行了常温电参数测试,全部符合规范要求,对其中5支标样进行了对比测试,发现hFE在贮存20年后平均下降了16% (年下降率0.8%),说明存在hFE退化机理,但未超出寿命试验失效判据(30%)。 / \* k! e2 m3 Z- m* J2 v* a

* T. \; y5 i! f) m0 y5 结论
8 m6 |* {; B3 Q2 O; S, x; A0 X2 t
高可靠半导体器件的贮存寿命极长,对于气密性良好的金属或陶瓷封装器件,如果内部水汽含量小于5000×10-6,外引线镀层质量良好,在Ⅰ类条件的贮存期限可达到25年,甚至更长。 " U- G& D3 ]4 R- E

7 v2 `2 _7 i, j& }我国航天部门制订的超期复验标准中对于有效贮存期订的过严,建议参考俄罗斯标准作必要的修订,作为过渡方案,可以将半导体器件的有效贮存期先放宽到5年,这在某重点工程中已证明是可行的。 ( W% l8 f2 ?! r( A. f
' y2 o/ z3 A( g+ O/ |8 f
国内有关部门应加强电子元器件贮存可靠性及评估技术研究,制定相应统一的标准规范。
4 N% E& [8 w1 X
7 [5 @* m- Y- ?/ M& e' U3 M
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