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标题: 动态铺铜后打过孔的问题: [打印本页]

作者: hhgjLcd    时间: 2013-3-19 11:06
标题: 动态铺铜后打过孔的问题:
我将电源层分割后,开始打电源和地的过孔,用的是动态铺铜!
, n+ H7 S+ w8 ~) ?8 ~0 y5 z奇怪的是同一网络,比如地网络吧,打过孔时电源层的铜皮有的避让,有的不避让,请问一下是怎么回事哦?$ `: i$ b& t0 `" U2 J

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作者: xh450321    时间: 2013-3-19 13:39
是不是dynamic fill 没有选smooth
作者: hhgjLcd    时间: 2013-3-19 14:40
xh450321 发表于 2013-3-19 13:39
2 }6 k' l" J& s, c9 |1 Y是不是dynamic fill 没有选smooth
* ]& Y" ], h4 X' L! v! u# [. Q

- E# N) c$ f' K
3 |* Z+ M+ c. I$ ]# G8 B. C选了的,不知道咋回事,呵呵~
作者: wtr_allegro15    时间: 2015-7-3 16:43
两个过孔与铺铜重叠的大小不同,左边的过孔与铜重叠的面积大,所以没有避让




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