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DXP做多层板时候有两种做内电层的方法
# |2 q6 N4 D, P4 t0 }' G: A" Q1:在layer stack manger里面选择 add layer
7 O: s+ g7 F# A% c3 V 相当于增加一个布线层,然后在这个层里面大面积敷铜连接到网络- _6 T. c' d1 t: ]2 m( I
2:在layer stack manger里面选择 add plane8 m: k3 `1 g. M, M- B- C
再进行内电层分割
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请问一般大家用那种呀?+ o+ S% C4 i2 a3 |
& P" i0 S% E: n3 V8 o& p我看到有人用第一种的时候把铜膜设置为网状的hatched类型/ B* O7 z0 E4 \8 ^: E. ^$ ^" J
想问下用add plane时候可以设置这样的铜膜类型不呢?8 Y) k; T8 {4 W# \( B5 a# j' w
用那种类型的铜膜好点呢?
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1 P6 M; }, Q( j/ F% O还有用 add plane的时候该如何设置内电层的边界大小尺寸呀?5 H# G' U1 n. J8 E7 w9 ] V! k
没有看到相关的命令呀
* V0 u' O; H) D, y/ \! v8 I: t- h O, H2 {; @) @' S3 C! r% p) X
谢谢- t4 V; P, q/ l; p7 A' A
非常感谢 |
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