各位有没有遇到--内层覆铜时选择十字交叉格式动态铜不避让的情况？

tjukb · 发表于 2012-8-19 21:19

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各位有没有遇到--内层覆铜时选择十字交叉格式动态铜不避让的情况？

选择solid就没有问题，选择十字时，网络间不避让导致报DRC错误。

katherine_he · 发表于 2012-9-20 17:14

tjukb 发表于 2012-9-20 16:35 5 Z" G; U1 k4 f- |' F# W4 g
她说的是我，我是LZ。哈哈, X% F: H# s6 Z
另外：* i( y7 ?, O1 W1 e) q4 f
为啥有P-S错误，怎么解释？

呵呵，都有点晕了，我还是不发言了。

tjukb · 发表于 2012-9-20 16:35

katherine_he 发表于 2012-9-20 16:12 ( ?2 V0 Y, \3 B
啥意思，上次你的回复不错啊。

她说的是我，我是LZ。哈哈
另外：
为啥有P-S错误，怎么解释？

tjukb · 发表于 2012-9-20 16:32

回楼上的二位，
我的操作步骤如下：
1. 首先将原来做的一块shape删掉，然后将xsection中的相应叠层改为正片。
2. 重新做shape，选择Xhatch格式
注意此时由于之前已经改为正片，所以是不报错DRC错误的。
问题来了，
3. 当按照楼上所说的将Xsection中叠层改为负片后，就会报P-S错误，不自动避让了。

katherine_he · 发表于 2012-9-20 16:16

mako88 发表于 2012-9-20 11:05
) t% } Y* T' T5 B( H: @, jLZ 你觉得这样说可以吗？

没明白你的意思

katherine_he · 发表于 2012-9-20 16:14

没明白你的意思，上面你的回复没错啊。

katherine_he · 发表于 2012-9-20 16:12

啥意思，上次你的回复不错啊。

mako88 · 发表于 2012-9-20 11:05

katherine_he 发表于 2012-9-17 15:14
4 {% j# Q- M, a* {改成正片后弄完的SHAPE，再改回负片应该不会报错啊，SHAPE已不会与Clines有冲突了

LZ 你觉得这样说可以吗？

katherine_he · 发表于 2012-9-17 15:14

改成正片后弄完的SHAPE，再改回负片应该不会报错啊，SHAPE已不会与Clines有冲突了

tjukb · 发表于 2012-9-16 20:51

mako88 发表于 2012-8-23 16:01
5 e5 c2 J* U# F& E1 a* eupdate 后，再改回来呗。

当叠层里的设置与光绘选项中的设置不一致时，也会生成光绘，但是提示Error。
mako88，此时生成的光绘文件可信吗，有这么干过并成功制板？

tjukb · 发表于 2012-8-23 16:03

可是，改回来又会报DRC错误啊。您说的update啥意识？

mako88 · 发表于 2012-8-23 16:01

tjukb 发表于 2012-8-23 15:58 ( V4 W4 y: k A% E9 x7 l
请问一下，改为正片之后，不会对出光绘有影响？8 p$ m- g7 [, {: t6 Q1 v

( y- K; v7 a+ ], H1 c) j光绘中这一层要设置为negative，但PCB的叠层中却是正片 ...

update 后，再改回来呗。