2012年6月20日 – 应用于高能效电子产品的首要高性能硅方案供应商安森美半导体(ON Semiconductor,美国纳斯达克上市代号:ONNN)宣布提供针对公司High-Q集成无源器件(IPD)工艺的完整从前到后工序工艺设计套件(PDK)。这PDK开发是为了配合安捷伦科技的先进设计系统(ADS) 2011电子设计辅助(EDA)软件一起使用,使安森美半导体及安捷伦科技的客户能够充分利用业界最全面射频(RF)及微波设计平台的优势。) z# r8 u2 x9 Q" B9 M
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安森美半导体的High-Q IPD工艺技术提供高电阻率硅铜(copper on high resistivity silicon)平台,非常适合用于生产无源器件,如用于便携、无线及射频应用的平衡-不平衡转换器、滤波器、耦合器、双工器及匹配网络。IPD技术用于安森美半导体在美国俄勒冈州Gresham的世界一流200 mm晶圆制造厂制造铜电感、精密电容及精密电阻。IPD为射频系统级封装提供高性价比方案。安森美半导体还为工程原型开发提供经济合算的晶圆厂往返服务。此外,安森美半导体还提供多种应用定制规格的设计服务。: A" e2 E* P! i