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标题: 现在的仿真工具是如何考虑介质粗糙度的呢? [打印本页]

作者: mengzhuhao    时间: 2012-3-17 22:22
标题: 现在的仿真工具是如何考虑介质粗糙度的呢?
本帖最后由 mengzhuhao 于 2012-3-17 22:47 编辑
2 C7 E/ [: a" V* x+ J4 Q3 U6 j7 ~' O! H4 x! W
现在的仿真工具是如何考虑介质粗糙度的呢?9 x7 U) G* V( q& a+ @# W7 {( B. V

' ^' e. ~6 k* j, F' P" ~理论上介电常数在1GHz里面的值比较稳定,频率更高的时候就会发现变化了
9 z3 _0 G/ h( g) z) x! ]+ E$ r7 L0 W6 [& m5 U
那么现有的工具都是如何考虑类似的情况呢?
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像仿真工具里面使用的介质是不是都是按理想介质考虑的??
作者: sunab8    时间: 2012-3-18 10:08
介质粗糙度是个什么东西?
作者: eins_0    时间: 2012-3-18 17:09
表面粗糙度本来就是一个统计的概念,按照统计学原理进行设置,很多软件都有这个功能
作者: mengzhuhao    时间: 2012-3-18 20:46
是不是应该是 铜箔粗糙度呢?
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7 {' x3 K# X) R% d: h2 H+ N介质的介电常数在高频的变化情况是不是也是一个考虑因素呢?
作者: eins_0    时间: 2012-3-19 09:38
我想楼主表达的是铜箔的表面粗糙度;! z9 S0 Q( F" H0 T( D- @$ }$ Q$ ~
频率对介电常数的影响很小,基本上不考虑,而介质损耗,是必须要考虑的,在板材特性里有一个介质损耗正切系数。
作者: shark4685    时间: 2012-3-19 17:08
铜箔粗糙度的研究,需要考虑很多因素,如:粗糙度的形状,单面粗糙还是双面,VPL的铜箔,普通蚀刻之后会变粗糙,需要特殊的蚀刻药水===....仿真方面需要EDA软件商,大力升级!
作者: mengzhuhao    时间: 2012-3-19 18:35
shark4685 发表于 2012-3-19 17:08 ! f; M0 x3 w6 A' M3 I
铜箔粗糙度的研究,需要考虑很多因素,如:粗糙度的形状,单面粗糙还是双面,VPL的铜箔,普通蚀刻之后会变粗 ...
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说的很全面哦 稍微理解了些 牛
作者: lap    时间: 2012-3-19 20:45
没接触过仿真,听不懂啊。有待学习




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