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标题: 关于AD内电层切割后间距的设置 [打印本页]

作者: linyouzhi 时间: 2015-9-28 20:29
标题: 关于AD内电层切割后间距的设置
由于绝缘耐压的不一样，我是想设置五种间距，如图一所示设置内电层间距的位置

图二是设置的网络

图三是各优先级设置

问题：为什么我不管设置优先级是什么，或者间距是什么，所有的内电层间距都只会按照PlaneClearance里面设置的来实现呢？就算把PlanceClearance删掉，也不管用，只会按照默认的20mil来，我也不知道为啥是20mil，是哪里可以删除吗？不知道有没有表达清楚，总之就是我指定的内电层网络想要设置的最小间距实现不了，不知道如何实现？

作者: jimmy 时间: 2015-9-29 13:30
你的内层使用的是正片还是负片。你上面的设置只针对负片有效。

作者: linyouzhi 时间: 2015-9-29 16:36

jimmy 发表于 2015-9-29 13:303 T; {3 C4 S; [& r( q% G9 U+ j# ?
你的内层使用的是正片还是负片。你上面的设置只针对负片有效。

谢谢回复，我用的就是负片，如果是正片的话就好弄了，设置一个间距把覆铜加载一下，但是负片的话就只能让它自动加载啊。

作者: 贺少杰 时间: 2015-10-7 17:17
这个规则是针对孔的隔离环的，你可以看下属于这些网络的孔的隔离环应该有有变化的。这个规则有个默认值20mil的，你把这项所有规则删除，会自动生成一个20mil的规则。
若想实现负片的铜距离其他所有孔间距的设置，建议设置10mil，手动挖大40mil的，若孔太多，可设置room规则，或者干脆做成正片。

作者: linyouzhi 时间: 2015-10-8 20:24

贺少杰发表于 2015-10-7 17:17
6 r2 r* v" h" E9 }: m这个规则是针对孔的隔离环的，你可以看下属于这些网络的孔的隔离环应该有有变化的。这个规则有个默认值20mi ...

恩，感谢回复，就是觉得自己把规则设置得这么详细还是没能实现，有点失望呢。

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