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标题: 关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness [打印本页]
作者: JOBS    时间: 2015-4-1 14:48
标题: 关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness
关于SIWAVE里仿真那个表面粗糙度suface roughness，设置值多少才正确，仿真了2个比较，差别不大。
作者: 红孩儿    时间: 2015-4-1 15:00
那玩意只是个摆设吧。
* C$ `# F- l2 Z" h1 o7 N
作者: 菩提老树    时间: 2015-4-1 15:34
这个要看你使用的是什么样的铜箔，有的是1um多，有的是2um多，也有的4um多。。。。。。
作者: cousins    时间: 2015-4-1 15:39
Hammerstad model
0 N$ |4 v: M% ]% G* }0 s$ S6 c则设置为1 microns rms top and bottom，大部分PCB厂商目前的约为4microns peak to peak surface roughness
% C/ U& y( M5 SHuray model) b- p, ^5 b+ C; M7 m) j& h& M
半径建议设置成0.5 microns  6~8 ratio ，原因同上。你也可以把半径设小，ratio设大来满足精度，但是相应的复杂设计仿真时间会大大增加。
作者: cousins    时间: 2015-4-1 15:40
差别主要在损耗上
作者: 红孩儿    时间: 2015-4-2 09:22
学习下，留个爪
作者: Xuxingfu    时间: 2015-4-2 09:30
SIwave仿真粗糙度有点扯，虚假的功能，别那么认真
作者: JOBS    时间: 2015-4-3 13:32
Xuxingfu 发表于 2015-4-2 09:30
5 r$ F, V! @' H! ]5 gSIwave仿真粗糙度有点扯，虚假的功能，别那么认真

; ~* D: w: v, P% T; X多谢版主。) T: B* ?$ {7 `) m! E
作者: mosman    时间: 2016-2-18 10:14
Xuxingfu 发表于 2015-4-2 09:303 i& b0 `1 B8 R, m4 x6 N5 k- U
SIwave仿真粗糙度有点扯，虚假的功能，别那么认真

$ ?9 r0 a  D7 e% G/ |% x( H  j你好，请问有什么工具仿真粗糙度比较靠谱呢？# b5 |4 G+ S/ w% b4 k4 o1 T: C! I7 V
作者: l888888h    时间: 2016-2-18 17:50
考虑粗糙度的影响和不考虑粗糙度的影响相差还是比较大的( D: M# Z! B( _
但是考虑了粗糙度之后，是将粗糙度设置为1um或是设置为1.5um，这个差距就不那么大了
9 ~! y3 ^) U4 V" s
3 ~& N1 H+ `# M所以，需要考虑粗糙度，然后将粗糙度设置为一个一般的值就可以



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